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更新時間：2023-03-17 09:45:20瀏覽次數(shù)：1730次
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等離子水洗Local Scrubber設(shè)備，用于去除半導(dǎo)體Dry Etch、ThinFilm、Diffusion等晶圓工藝制程中使用或產(chǎn)生的PFC溫室氣體和有毒有害氣體，如：CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。
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等離子水洗Local Scrubber設(shè)備，用于去除半導(dǎo)體Dry Etch、ThinFilm、Diffusion等晶圓工藝制程中使用或產(chǎn)生的PFC溫室氣體和有毒有害氣體，如：CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。
LOCAL SCRUBBER工作原理
通過直流電源，使工作氣體（氮氣）進入等離子體反應(yīng)器，在正負極qiang電流的作用下，被電離成等離子體，瞬間產(chǎn)生巨大的火焰，產(chǎn)生的高溫火焰將廢氣分解。
LOCAL SCRUBBER設(shè)備優(yōu)勢
1、去除效率高，不需要燃料和熱源，耗能低；
2、處理高沸點廢氣，應(yīng)用范圍廣；
3、高溫、反應(yīng)速度快；
4、設(shè)備占地面積小、便于安裝。
本裝置的直流電弧等離子體為非轉(zhuǎn)移型，兩電極區(qū)域不參與反應(yīng)，只產(chǎn)生等離子體，產(chǎn)生的火焰溫度可達3000度以上。
等離子反應(yīng)器的MTBF大于1年，反應(yīng)室內(nèi)腔的材質(zhì)耐熱和耐腐，具有四個進氣口，裝置具備冷卻區(qū)、噴淋區(qū)及兩級填料除霧區(qū)，對PFC溫室氣體的去除效率>90%。
LOCAL SCRUBBER性能參數(shù)
除效率 CF4>90%@150slm、NF3>95%@300slm MTBF >6months; MTTR<1.5hr cpvc="">1year 尺寸（mm） 800*800*1850 進氣口 NW50*4 耗能 12kw for CF4>90%;9kw for NF3>95% 水量<4slm
LOCAL SCRUBBER生產(chǎn)廠家
格林斯達環(huán)保集團，工藝廢氣治理系統(tǒng)解決方案提供商，提供廢氣治理一站式服務(wù)（方案規(guī)劃設(shè)計、設(shè)備生產(chǎn)及安裝、系統(tǒng)運行調(diào)試、智慧運維）。如您有Local Scrubber采購需求，即刻聯(lián)系我們吧！
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