日立高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000
SU9000是世界上二次電子分辨率（0.4nm@30kV）和STEM分辨率（0.34nm@30kV）的掃描電鏡。它采取了*的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng)，不僅分辨率性能優(yōu)異，而且作為冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作，可以快速穩(wěn)定的進(jìn)行超高分辨成像。

日立高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000

主要特點：

1.  新型電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計達(dá)到掃描電鏡世界高分辨率：二次電子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。

2.  用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實現(xiàn)高效率截面觀察。

3.  采用全新設(shè)計的Super E x B能量過濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。

應(yīng)用領(lǐng)域：

1.      半導(dǎo)體器件

2.      高分子材料

3.      納米材料

4.      生命科學(xué)