產(chǎn)品優(yōu)勢
 
 
1、CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)），通道不受限制 ；
2、國際光譜儀技術(shù)同步，國內(nèi)能生產(chǎn)真空CCD/CMOS全譜技術(shù)光譜儀的制造商；
3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用
4、升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；
6、體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；
7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ；
主要特點：
1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦  基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線，使儀器用短的時間達(dá)到優(yōu)的分析效果；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積變小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定；
6、開放式的電極架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，計算機(jī)自動扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計了電極自吹掃功能，易清潔電極；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況；
14、儀器與計算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機(jī)升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有好的適用性；
15、核心器件，保證儀器品質(zhì)。