EDI水設備簡介

電去離子（EDI）技術為電滲析與離子交換有機結合形成的一種新型膜分離技術，既利用了電滲析可以連續(xù)除鹽和離子交換樹脂可以深度除鹽的優(yōu)點，又克服了電滲析濃差極化的負面影響及離子交換樹脂需要酸堿再生、不能連續(xù)工作的缺陷，制水過程可以*連續(xù)進行。 

EDI水設備工作原理

EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過明陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水.EDI設備一般以反滲透(R0)純水作為EDI給水。R0純水電阻率一般是40~2μS/cm(25℃)。 EDI純水電阻率可以高達18MΩ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設置, EDI純水適用于制備電阻率要求在 1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。 

EDI優(yōu)點

1、出水水質非常穩(wěn)定；
2、能連續(xù)工作，生產出符合用戶要求的超純水；
3、無需酸堿再生，無污水排放；
4、模塊化生產，全自動控制；
5、無需因再生而停機；
6、設備結構緊湊，占地面積??；
7、運行、維修成本低；
8、運行操作簡單，勞動強度低； 

應用范圍

EDI作為制取超純水的設備，作為反滲透設備后的二次除鹽設備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。EDI設備無需化學藥劑的再生，可以連續(xù)運行。在具體的應用中，僅調節(jié)EDI的運行電流就可以改變其出水水質。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導體工業(yè)，發(fā)電工業(yè) ,制藥行業(yè)和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發(fā)電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用超純水。