一、EDI超純水制取設(shè)備概述

EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用，組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng), 是傳統(tǒng)離子交換混床工藝的取代技術(shù)。EDI裝置進水要求為電阻率為0.05-0.5MΩ·cm，反滲透裝置*可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。

二、EDI超純水制取設(shè)備工藝原理

EDI超純水設(shè)備又稱連續(xù)電除鹽技術(shù)，是一種超純水制造技術(shù)。它通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并同時通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生。

三、EDI超純水設(shè)備工藝流程圖如下：

工作狀態(tài)下，流經(jīng)EDI單元的水中的鹽離子發(fā)生三種遷移：
離子與陰、陽樹脂發(fā)生離子交換而結(jié)合到樹脂顆粒上；
離子在電場作用下經(jīng)樹脂顆粒構(gòu)成的離子通道遷移；
離子經(jīng)過離子交換膜遷移到濃水室，從而完成水的脫鹽過程；在一定的電流密度下，樹脂、膜、水之間的界面處因產(chǎn)生濃差極化而迫使水分解成H+和OH－，從而同時再生了樹脂。

四、EDI超純水設(shè)備特點

 連續(xù)運行，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定

無需酸堿再生，利于環(huán)保

產(chǎn)水率高，占地面積小

操作簡單，容易實現(xiàn)全自動控制

性能穩(wěn)定，維修工作量小

運行維護成本低

五、EDI超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水；

電力行業(yè)低壓鍋爐所需除鹽水；

醫(yī)藥行業(yè)科研大輸液、藥劑、注射劑、生化制品、人工透析用超純水；

電鍍電泳涂裝、石油、化工、冶金等工藝超純水；

光學(xué)玻璃鍍膜前清洗用超純水；