污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
伯東企業(yè)（上海）有限公司
會(huì)員1.png)
伯東企業(yè)（上海）有限公司
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地上海市
聯(lián)系方式：葉小姐查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2023-05-10 09:48:56瀏覽次數(shù)：195次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)| 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 |
|---|
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級(jí)款. 具有更大的柵極, 更堅(jiān)固, 可以配置自對(duì)準(zhǔn)第三層?xùn)艠O. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預(yù)清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積.
KRI 考夫曼離子源 KDC 40
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級(jí)款. 具有更大的柵極, 更堅(jiān)固, 可以配置自對(duì)準(zhǔn)第三層?xùn)艠O. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預(yù)清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮?dú)? 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 120 mA.
KRI 考夫曼離子源 KDC 40 技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | KDC 40 |
供電 | DC magnetic confinement |
- 陰極燈絲 | 1 |
- 陽(yáng)極電壓 | 0-100V DC |
電子束 | OptiBeam™ |
- 柵極 | 專(zhuān)用, 自對(duì)準(zhǔn) |
-柵極直徑 | 4 cm |
中和器 | 燈絲 |
電源控制 | KSC 1202 |
配置 | - |
- 陰極中和器 | Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000 |
- 架構(gòu) | 移動(dòng)或快速法蘭 |
- 高度 | 6.75' |
- 直徑 | 3.5' |
- 離子束 | 集中 |
-加工材料 | 金屬 |
-工藝氣體 | 惰性 |
-安裝距離 | 6-18" |
- 自動(dòng)控制 | 控制4種氣體 |
* 可選: 可調(diào)角度的支架
KRI 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用領(lǐng)域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE
若您需要進(jìn)一步的了解考夫曼離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線(xiàn) 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
