KDH-500Z手套箱型電弧爐 實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備
KDH-500Z 面議污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
伯東企業(yè)（上海）有限公司
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產(chǎn)品型號
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所 在 地上海市
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更新時(shí)間：2023-04-06 14:20:38瀏覽次數(shù)：621次
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上海伯東美國 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 套裝包含離子源本體和電源控制器.
大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國 KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用. 廣泛應(yīng)用于離子束刻蝕機(jī).
KRi 射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時(shí)間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計(jì)
3. 離子光學(xué), 自對準(zhǔn)技術(shù), 準(zhǔn)直光束設(shè)計(jì), 自動調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運(yùn)行
4. 全自動控制器
5. 離子束動能 100-1200eV
6. 柵極口徑 38cm, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用
射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)規(guī)格:
陽極 | 電感耦合等離子體 |
陽極功率 | >1kW |
離子束流 | > 1000mA |
電壓范圍 | 100-1500V |
離子束動能 | 100-1200eV |
氣體 | Ar, O2, N2,其他 |
流量 | 5-50sccm |
壓力 | < 0.5mTorr |
離子光學(xué), 自對準(zhǔn) | OptiBeamTM |
離子束柵極 | 38cm Φ |
柵極材質(zhì) | 鉬 |
離子束流形狀 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000 |
高度 | 38.1 cm |
直徑 | 58.2 cm |
鎖緊安裝法蘭 | 12"CF |
射頻離子源 RFICP 380 基本尺寸:
上海伯東美國考夫曼 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸磁存儲器刻蝕機(jī), 8英寸量產(chǎn)型金屬刻蝕機(jī)中, 實(shí)現(xiàn) 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蝕工藝, 適用于 IC, 微電子,光電子, MEMS 等領(lǐng)域.
作為蝕刻機(jī)的核心部件, KRI 射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時(shí)間更長, 滿足各種材料刻蝕需求!
若您需要進(jìn)一步的了解 KRi 射頻離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生
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