等離子體指部分或*電離的氣體，且自由電子和離子所帶正、負(fù)電荷的總和*抵消，宏觀(guān)上呈現(xiàn)中性電。等離子體又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質(zhì)存在的第四態(tài)。

低溫等離子設(shè)備由來(lái)

       是來(lái)源于美國(guó)等離子技術(shù)，原先主要用于有關(guān)核能與宇宙帶電粒子研究。因?yàn)榈入x子技術(shù)的醫(yī)用治療溫度低，損傷小，所以在醫(yī)學(xué)上被稱(chēng)為“微創(chuàng)術(shù)”，又稱(chēng)為“頭發(fā)絲技術(shù)”。

低溫等離子設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

       現(xiàn)實(shí)生活中，惡臭物質(zhì)、氣體很多，來(lái)源亦很廣，主要是由有機(jī)物加熱或燃燒，有機(jī)溶劑揮發(fā)，肉類(lèi)加工的廢液、廢渣處理等產(chǎn)生的，皮革廠(chǎng)、噴漆廠(chǎng)、化工廠(chǎng)、制漿造紙廠(chǎng)、屠宰場(chǎng)、污水處理站、垃圾站等都是惡臭的污染源。表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及等離子體輔助化學(xué)氣相沉積。

新技術(shù)

        等離子設(shè)備中頻，射頻等離子處理機(jī)型；處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準(zhǔn)輝光、隧道、水平線(xiàn)多種常壓等離子處理設(shè)備；

       等離子處理機(jī)具有高穩(wěn)定性、高性?xún)r(jià)比、高均勻性等諸多優(yōu)點(diǎn)。
特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿(mǎn)足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求，包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
       低溫等離子體表面處理設(shè)備、水平式低溫等離子體表面處理設(shè)備、卷對(duì)卷式低溫等離子體表面處理設(shè)備、以及大氣壓輝光放電表面處理設(shè)備