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痕量低濃度氮氧化物分析儀

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山東優(yōu)特環(huán)保科技有限公司

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痕量低濃度氮氧化物分析儀是用于分析氣體組成成分的儀表，屬于流程分析儀表中的一種,是化學(xué)參數(shù)測(cè)量?jī)x表，在很多工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中，氣體分析儀表的地位與壓力儀表、流量?jī)x表等物理參數(shù)測(cè)量?jī)x表是不相上下的，能起到控制生產(chǎn)環(huán)境、減少安全事故等重要作用;除通常用來(lái)分析氫氣、氨氣、二氧化碳、二氧化硫和低濃度可燃性氣體含量。

詳細(xì)介紹

痕量低濃度氮氧化物分析儀它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術(shù)的不同之處在于，半導(dǎo)體激光光譜寬度遠(yuǎn)小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術(shù)是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù)，半導(dǎo)體激光穿過(guò)被測(cè)氣體的光強(qiáng)衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關(guān)系式表明氣體濃度越高，對(duì)光的衰減也越大。因此，可通過(guò)測(cè)量氣體對(duì)激光的衰減來(lái)測(cè)量氣體的濃度。

痕量低濃度氮氧化物分析儀多應(yīng)用于存在化學(xué)反應(yīng)的生產(chǎn)過(guò)程，例如氨氣合成流程中，在使用溫度儀表和壓力儀表控制反應(yīng)環(huán)境以外，還需要使用氣體分析儀表來(lái)分析進(jìn)氣的化學(xué)成分，控制氫氣和氨氣之間的合理比例，這樣才能大限度的提高氨氣合成率，而獲得較高的生產(chǎn)效率。在鍋爐燃燒控制中也起到了非常重要的作用。

單光路：從光源發(fā)出單束紅外光，利用切光裝置將紅外光調(diào)制成不同波長(zhǎng)的光束，輪流通過(guò)分析氣室進(jìn)入檢測(cè)器。

質(zhì)譜分析法是利用不同離子在電場(chǎng)或者磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)軌跡的不同，把離子按質(zhì)荷比分離而得到質(zhì)量圖譜，可以得到樣品的定性定量結(jié)果。質(zhì)譜儀按照常用的質(zhì)量分離器不同可分為掃描磁扇式磁場(chǎng)質(zhì)譜儀和四極質(zhì)譜儀，飛行時(shí)間質(zhì)譜儀等幾種類(lèi)型。目前工業(yè)應(yīng)用上通常采用的是掃描磁扇式質(zhì)譜儀。四極質(zhì)譜儀的靈敏度高，適合實(shí)驗(yàn)室或科學(xué)研究。掃描磁扇式的穩(wěn)定性和重復(fù)性較高，適合工業(yè)應(yīng)用。

不僅在一臺(tái)氣體分析儀器內(nèi)部具備一套化工工藝過(guò)程的同樣情況和條件，而且，有時(shí)在儀器前級(jí)的樣氣預(yù)處理部分（含取樣系統(tǒng)）也同樣是一套化工工藝過(guò)程。如遇到較復(fù)雜、較特殊的工藝技術(shù)條件的話，那么樣氣預(yù)處理系統(tǒng)所體現(xiàn)的化工過(guò)程還是非常復(fù)雜的，相當(dāng)于一個(gè)小化工廠的凈化處理工藝過(guò)程。由此可見(jiàn)，氣體分析的過(guò)程就是在了解并掌握整個(gè)化工過(guò)程系統(tǒng)條件的前提下，嚴(yán)格控制各種影響測(cè)定條件的因素，從而得到工藝及管理人員所需要的準(zhǔn)確數(shù)據(jù)。

在儀器應(yīng)用的過(guò)程中，影響因素種類(lèi)較多且變化較復(fù)雜，而要想有效地控制這些影響因素及排除干擾測(cè)定的因素則困難比較大。例如微量氧的測(cè)定，不但要嚴(yán)格控制系統(tǒng)材質(zhì)和密封，而且系統(tǒng)的潔凈等諸多因素也必須逐一解決好，否則，氧成分分析不會(huì)得到準(zhǔn)確的測(cè)定結(jié)果。而對(duì)于氣體中微量水含量的測(cè)定，除了考慮以上提到的各種影響因素外，還必須考慮到樣氣中的水在管道內(nèi)的吸附平衡問(wèn)題，而這一問(wèn)題的妥善處理必須依靠反復(fù)試驗(yàn)，了解其變化情況和規(guī)律，掌握其中的操作技術(shù)，以便得到準(zhǔn)確無(wú)誤的結(jié)果。

關(guān)鍵詞：氮氧化物分析儀氣體分析儀