電子超純水設(shè)備去離子設(shè)備是采用RO+EDI技術(shù)設(shè)計(jì)，關(guān)鍵部件、設(shè)備采用進(jìn)口產(chǎn)品，工藝*，質(zhì)量可靠，可擴(kuò)展性強(qiáng)，結(jié)構(gòu)合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動(dòng)化運(yùn)行，操作維護(hù)簡(jiǎn)單。根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)制造反滲透系統(tǒng)，一般產(chǎn)水下限0.25m3/hr，上限不限，水回收率一般可達(dá)75%以上，脫鹽率＞98%。產(chǎn)水量隨進(jìn)水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化。我公司采用的現(xiàn)代超純水制造工業(yè)
超純水去離子設(shè)備典型工藝流程為：
1、預(yù)處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點(diǎn)
2、預(yù)處理－一級(jí)反滲透－二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn)
3、預(yù)處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn)
4、預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn)水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí)）

超純水設(shè)備去離子設(shè)備電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗  電子管生產(chǎn)　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液  顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)　玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水    液晶顯示器的生產(chǎn)　屏面需用純水清洗和用純水配液  晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中超純水去離子設(shè)備清洗硅片。