韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
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詳細(xì)摘要： Orion HDCVD 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-25 在線留言
詳細(xì)摘要： Minilock-Orion III是一套*的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積（PECVD）系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 磁控濺射技術(shù)GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限...
產(chǎn)品型號：GSC-1000所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-25 在線留言
詳細(xì)摘要： Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜
產(chǎn)品型號：Trion Orion III所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 德國韋氏納米系統(tǒng)專門為大學(xué)，研究機(jī)構(gòu)提供了一系列高真空/超高真空桌面型熱蒸發(fā)鍍膜工藝平臺。
產(chǎn)品型號：VapourStation-10所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 聲表面波SAW功率發(fā)生器 簡化和加速聲流控實(shí)驗(yàn)的一款高精度，頻率的控制器。
產(chǎn)品型號：F系列所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 原子層沉積（Atomic layer deposition, ALD）是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替的通入反應(yīng)器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的一種方法，是...
產(chǎn)品型號：AT-400所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 上市時(shí)間：2017年2月ALD-4000是一款獨(dú)立的PC計(jì)算機(jī)控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶*保護(hù)功能
產(chǎn)品型號：ALD-4000所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 美國NXQ以的性能，經(jīng)濟(jì)的價(jià)格，深受用戶喜愛，截至2016年底，超過5000臺NXQ曝光系遍布*科研實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)中心。
產(chǎn)品型號：NXQ4000所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-14 在線留言
詳細(xì)摘要： OAI 200型光刻機(jī) 和紫外曝光系統(tǒng) OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。 高效光源在各種光譜上提供均勻的紫外線照射。.
產(chǎn)品型號：Model 200所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-14 在線留言
詳細(xì)摘要： 德國優(yōu)尼藤專業(yè)致力于制造真空熱工藝處理設(shè)備，人性化的設(shè)計(jì)，桌面型/空間緊湊。在世界各大*大學(xué)實(shí)驗(yàn)室，研究所等機(jī)構(gòu)廣泛應(yīng)用
產(chǎn)品型號：RTP-100所在地：深圳市更新時(shí)間：2018-09-14 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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