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紫外掩膜曝光機(jī) Model 200

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韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

測(cè)量范圍	0KN	測(cè)量精度	0

OAI 200型光刻機(jī) 和紫外曝光系統(tǒng)
OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。
高效光源在各種光譜上提供均勻的紫外線照射。.

詳細(xì)介紹

OAI 200型光刻機(jī)和紫外線曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟(jì)高效的高性能工具，采用行業(yè)驗(yàn)證的模塊化組件進(jìn)行設(shè)計(jì)，使OAI成為MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的*者。200型是臺(tái)式機(jī)型，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，試驗(yàn)或小批量生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空卡盤校平系統(tǒng)，基板被快速和平緩地平整以用于平行光掩模對(duì)準(zhǔn)和在接觸暴露期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)具有微米分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。對(duì)準(zhǔn)模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤，其允許使用各種襯底和掩模，而不需要對(duì)機(jī)器重新設(shè)定。對(duì)準(zhǔn)模塊包含X，Y和θ軸（微米）。200型對(duì)準(zhǔn)器可以廣泛地安裝進(jìn)對(duì)準(zhǔn)光學(xué)儀器，包括背面IR。 IR照明真空吸盤可以被配置用于整個(gè)或或部分晶片的對(duì)準(zhǔn)。 OAI 200型可配置OAI納米壓印模塊，使其成為低成本的NIL工具。 OAI還提供了一個(gè)模塊，設(shè)計(jì)用于使用液體光引物進(jìn)行快速成型或生產(chǎn)微流體器件。 Model 200具有可靠的OAI光源，在近紫外或深紫外線下使用200至2000瓦功率的燈提供準(zhǔn)直的紫外光。雙傳感器，光學(xué)反饋回路與恒定強(qiáng)度控制器相關(guān)聯(lián)，以提供在所需強(qiáng)度的±2％內(nèi)的曝光強(qiáng)度的控制?？梢院?jiǎn)單快速地改變UV波長(zhǎng)。

OAI 200型是一個(gè)高度靈活的，經(jīng)濟(jì)的解決方案，適合任何入門級(jí)掩模對(duì)準(zhǔn)和紫外線照射應(yīng)用。

關(guān)鍵詞：傳感器