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韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號RTP-100
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地深圳市
聯(lián)系方式:劉先生查看聯(lián)系方式
更新時間:2018-09-14 14:08:35瀏覽次數(shù):462次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線德國優(yōu)尼藤專業(yè)致力于制造真空熱工藝處理設(shè)備,人性化的設(shè)計,桌面型/空間緊湊。在世界各大*大學(xué)實(shí)驗(yàn)室,研究所等機(jī)構(gòu)廣泛應(yīng)用
RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火爐
應(yīng)用于4英寸的真空/高真空快速退火應(yīng)用。
應(yīng)用領(lǐng)域:
離子注入/接觸退火;
快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);
可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同氣體氛圍環(huán)境下使用;
SiAu, SiAl, SiMo合金化;
低介電材料;
晶體化,致密化;
太陽能電池片鍵合;
電阻燒結(jié)
其他熱工藝需求
等等...
產(chǎn)品特點(diǎn):
- 真空快速退火爐,有RTP-100型號 低真空(10-3 hPa)
RTP-100-HV 高真空(10-6 hPa);
- 可應(yīng)用在不同氣氛環(huán)境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;
- 控制方式:SPS人機(jī)界面控制,7英寸觸摸屏控制;
- 可存儲50個程序,每個程序多分為50步驟控制;
- 全自動智能控制,包括溫度、時間、氣體流量、真空度、冷卻水均可自動設(shè)置;
- 優(yōu)異的溫控均勻性,的工藝重復(fù)性;
技術(shù)規(guī)格:
- 溫度高達(dá):1200℃;
- 升溫速率:150℃/秒;
- 降溫速度:200℃/分鐘 (1000℃-->400℃);
- 溫控均勻性:≤ 1.5%設(shè)定溫度;
- 加熱方式:紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞考訜?,也可單?dú)控制加熱
- 燈管數(shù)量及功率:18支/20KW
- 腔體冷卻:水冷方式,獨(dú)立冷卻源
- 襯底冷卻:氮?dú)獯祾撸?/span>
- 工藝氣路:MFC控制,多4路 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?;
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