冶金化工用EDI超純水設備是結合了電滲析與離子交換兩項技術各自的特點而發(fā)展起來的一項新技術，與普通電滲析相比，由于淡室中填充了離子交換樹脂，大大提高了膜間導電性，顯著增強了由溶液到膜面的離子遷移，破壞了膜面濃度滯留層中的離子貧乏現(xiàn)象，提高了極限電流密度；與普通離子交換相比，由于膜間高電勢梯度，迫使水解離為H+和OH-，H+和OH-一方面參預負載電流，另一方面可以又對樹脂起就地再生的作用，因此EDI不需要對樹脂進行再生，可以省掉離子交換所必需的酸堿貯罐，也減少了環(huán)境污染。

因考慮的因素有：您的實驗用途(實驗項目名稱)、水質需求、水量需求、源水水質情況，以及您對取水方式、安裝擺放、產(chǎn)品外觀的需求，根據(jù)以上的需求來選擇更適合您的超純水設備，不但給您的實驗工作帶來方便而且更省心。如何正確選用超純水設備。

1、用途：

根據(jù)其用途如實驗項目，可以大致確定選哪一類機型(P、U、C類)。

2、水質：

若有具體的水質要求，可由此選定哪種機型如JY、FZ、WL等機型源水水質：

源水發(fā)黃，硬度高，源水TDS值高即含鹽量高，需另加可選附件。

3、高峰用水量：

根據(jù)高峰水理可以選擇貯水裝置之容量。

4、取水方式：

是否需要出水壓力(作為其它使用儀器的進水壓力);是否與軟管連接取水、是否需快速大量取水等。

5、安裝擺放要求：

擺放空間，進水、排立口遠近，儲水箱與主機允許擺放位置 。

6、其他要求：

特殊需求、量身定做。

冶金化工用EDI超純水設備應用領域：電子行業(yè)的電路板清洗、單晶硅、半導體片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元件生產(chǎn)工藝用水都需要用純水。