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GCIB10S 離子源系統(tǒng)

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GCIB10S是一種高性能10千伏氣體團(tuán)簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實(shí)時(shí)集群大小測(cè)量和內(nèi)置樣本電流成像系統(tǒng)，以幫助您充分利用實(shí)驗(yàn)。

詳細(xì)介紹

GCIB10S是一種高性能10千伏氣體團(tuán)簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。 GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實(shí)時(shí)集群大小測(cè) 量和內(nèi)置樣本電流成像系統(tǒng)，以幫助您充分利用實(shí)驗(yàn)。 GCIB 10S具有完整的泵送系統(tǒng)和單獨(dú)軟件，是一種栓接式升級(jí)，將集束束濺射的力量引入現(xiàn)有的真空儀器，如 XPS、SEM和SIMS。

GCIB 10S可去除不定碳和其他表面污染，而不會(huì)損壞基材，同時(shí)還可對(duì)有機(jī)物和聚合物等軟材料進(jìn)行無(wú)損傷深度剖析。下圖顯示了分別使用Ar1和Ar2000蝕刻原始PET表面前后的C 1s 峰值。數(shù)據(jù)清楚地顯示了單原子Ar1束（紅色）造成的化學(xué)損傷，而光譜在暴露于Ar2000束（藍(lán)色）后幾乎保持不變。