半導(dǎo)體行業(yè)廢氣治理設(shè)備江蘇等離子+UV光解一體機(jī)廢氣除臭凈化器
一、半導(dǎo)體制造行業(yè)
【行業(yè)基本情況】：
半導(dǎo)體產(chǎn)品可大致劃分為三大類(lèi)：分立器件、集成電路與光電組件，其中集成電路就占了半導(dǎo)體近九成的比重，可謂半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重心所在。2000年以來(lái)，中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)處于高速成*。預(yù)計(jì)2008年-2010年這3年間，中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)整體銷(xiāo)售收入的年均復(fù)合增長(zhǎng)率將達(dá)到23.6%。到2010年，中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)銷(xiāo)售收入將達(dá)到約2500億元。預(yù)計(jì)2010年-2015年，我國(guó)將以年均近20%速度向前發(fā)展，產(chǎn)業(yè)規(guī)模達(dá)到約6000億元，屆時(shí)中國(guó)將成為世界重要電路制造基地之一。2007年，我國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)總數(shù)達(dá)700家左右，其中IC設(shè)計(jì)業(yè)500多家，IC制造業(yè)30多家，封裝測(cè)試業(yè)100多家。IC制造業(yè)企業(yè)已相對(duì)集中，主要分布在上海、北京、江蘇、浙江等省市，長(zhǎng)江三角洲地區(qū)成為中國(guó)集成電路重鎮(zhèn)。
【控制要求】：
半導(dǎo)體制造工藝中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機(jī)物成分。在工藝過(guò)程中，這些有機(jī)溶劑大部分通過(guò)揮發(fā)成為廢氣排放。目前，有機(jī)廢氣排放處理措施采用大風(fēng)量低濃度，其處理一般采用吸附濃縮技術(shù)、等離子光解技術(shù)、或UV光解技術(shù)等等。
【半導(dǎo)體制造行業(yè)廢氣處理工藝】：
半導(dǎo)體制造行業(yè)廢氣預(yù)處理設(shè)備（根據(jù)具體項(xiàng)目及廢氣源實(shí)際工況，可能涉及到粉塵去除、水氣分離、高溫降溫處理、油膏油脂去除、酸堿水霧去除等相應(yīng)的預(yù)處理措施）等離子UV光解除臭廢氣凈化器高排。
半導(dǎo)體行業(yè)廢氣治理設(shè)備江蘇等離子+UV光解一體機(jī)廢氣除臭凈化器
等離子光解廢氣分解除臭凈化器
【工作原理】
本設(shè)備是等離子分解廢氣凈化器+UV光解除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的*結(jié)合，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)組合而成，利用等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)相結(jié)合，對(duì)廢氣和臭氣進(jìn)行高效協(xié)同凈化處理！
（1）廢氣和惡臭氣體進(jìn)入集成設(shè)備后，經(jīng)過(guò)UV紫外光束區(qū)時(shí)，被紫外光波高能高效率地照射，瞬間產(chǎn)生光解反應(yīng)，打開(kāi)廢氣和臭味污染物分子的化學(xué)鍵，破壞其分子結(jié)構(gòu)和核酸；利用高能紫外光波分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無(wú)害或低害的化合物。如CO2、H2O 等。 UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。
（2）廢氣和惡臭氣體經(jīng)過(guò)等離子體電場(chǎng)區(qū)，在納秒級(jí)時(shí)間范圍內(nèi)，等離子猛烈轟擊廢氣和臭味等污染物分子，產(chǎn)生裂變分解反應(yīng)，產(chǎn)生高濃度、高強(qiáng)度、高能量的各種活性自由基、高能電子、高能離子等，同時(shí)產(chǎn)生大量臭氧、原子氧、生態(tài)氧等混合氣體，進(jìn)行一系列復(fù)雜的分化裂解和氧化還原反應(yīng)。
（3）UV紫外光解與等離子分解如此高效協(xié)同地產(chǎn)生一系列光解和分解反應(yīng)，經(jīng)過(guò)復(fù)合式多級(jí)凈化后從而達(dá)標(biāo)排放！既能安全高效地凈化治理各種有害廢氣，又能高效干凈地去除各種惡臭味道。
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