無錫等離子光氧除臭設(shè)備生產(chǎn)廠家 豪澋環(huán)保
低溫等離子除臭＋UV光解一體機適用行業(yè)及范圍
噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等產(chǎn)生的有毒有害惡臭廢氣體
無錫等離子光氧除臭設(shè)備生產(chǎn)廠家 豪澋環(huán)保
低溫等離子除臭+UV光解一體機概述
低溫等離子除臭+UV光解一體機分為紫外線光解和等離子分解兩個區(qū)，惡臭氣體先經(jīng)等離子分解區(qū)再到UV紫外線光解區(qū)，經(jīng)多級凈化后達(dá)標(biāo)排出。
UV紫外線光解區(qū)：利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體，如氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。再分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧。因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。*，臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它感激性異味有*的清除效果。有機惡嗅氣體通過本區(qū)后，凈化運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧氧化反應(yīng)。
低溫等離子分解區(qū)：采用了*的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設(shè)計，無需再生處理原料，無需專人負(fù)責(zé)，不產(chǎn)生二次污染。采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產(chǎn)生高強度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒級的時間內(nèi)，瞬間對經(jīng)過UV光解區(qū)進入等離子分解區(qū)的氣體內(nèi)殘留的有害分子進行氧化還原反應(yīng)，將廢氣中的污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)。利用催化氧化劑的強氧化性和高吸附性，持續(xù)地對等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進行催化氧化反應(yīng)，使有害廢氣經(jīng)多級凈化后終達(dá)標(biāo)排放。
因此，我們將低溫等離子除臭＋UV光解這兩種處理方案結(jié)合起來。將等離子裝置布置在光解設(shè)備的前段，離子裝置產(chǎn)生的O3與有機廢氣混合后，流經(jīng)紫外線燈管。紫外線燈管能進一步地觸發(fā)O3的生成，同時在燈管254nm紫外線的催化作用下，O3與有機物的反應(yīng)效能大幅提升，從而取得理想的處理效果。由于等離子裝置較紫外燈管高得多的臭氧產(chǎn)生效能，使得設(shè)備的功耗隨之降低，節(jié)能*。
低溫等離子除臭＋UV光解一體機技術(shù)特點與優(yōu)勢
設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，安裝簡單。
友好的人機界面、智能化的控制，操作和維護簡便易行。
留有計算機接口，方便聯(lián)入中控室統(tǒng)一控制、操作。
可與設(shè)備聯(lián)動，只需運行設(shè)備，除異味裝置即可聯(lián)動。
一次性投資，資金適中。
設(shè)備功耗低，運行時只需電和少量的水；運行費用極低。
設(shè)備可以靈活組合，根據(jù)不同廢氣進行不同的組合。
處理后的終產(chǎn)物為二氧化碳和水，無二次污染。
