光氧廢氣凈化法原理：

　　光氧廢氣裝置（一重破壞、分解，三重催化氧化）

破壞

　　采用高能C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數(shù)十倍強度）在設備內，強裂解惡臭物質分子鏈，改變物質結構，將高分子污染物質，裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等。

催化氧化

　　1、o3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化，可有效地殺滅細菌，將有毒有害物質破壞且改變成為低分子無害物質。

　　2、催化劑涂層，在C波段激光刺激它產生活性，強化催化氧化作用。

　　3、在分解過程中產生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*（活性氧）O+O2-O3（臭氧），*臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它剌激性異味有*的清除效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化，裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，*達到脫臭及殺滅菌的目的。