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光學(xué)元件在生產(chǎn)過(guò)程中很容易接觸手指，容易在上面留下指紋，而且制造過(guò)程中也容易使光學(xué)元件的表面粘上灰塵，因此，為了確保產(chǎn)品質(zhì)量，必須進(jìn)行清潔，這就需要配套光學(xué)元件清洗超純水設(shè)備了。

有的人問(wèn)了，為什么要用光學(xué)元件清洗超純水設(shè)備呢，不能用自來(lái)水、紙巾或布條清潔嗎？當(dāng)然不行！光學(xué)元件表面有一層涂層。該涂層用于保護(hù)光學(xué)元件。如果隨意使用紙巾或布條進(jìn)行清潔，光學(xué)元件表面的涂層很容易損壞，從而影響光學(xué)元件的質(zhì)量。那么，使用自來(lái)水可以？也錯(cuò)了！自來(lái)水中存在顆粒物、有機(jī)物、膠體等物質(zhì)。雖然這些物質(zhì)不能用肉眼看到，但在清潔過(guò)程中，它們會(huì)在光學(xué)元件的表面造成摩擦，損壞表面的涂層，并影響其質(zhì)量。所以要用光學(xué)元件清洗超純水設(shè)備。

光學(xué)元件清洗超純水設(shè)備有哪些？君浩環(huán)保生產(chǎn)的超純水設(shè)備主要采用預(yù)處理+反滲透技術(shù)+EDI等工藝流程，將水中不離解的膠體物質(zhì)、顆粒、雜質(zhì)、有機(jī)物去除，是目前制取超純水常用的工藝流程。

君浩環(huán)保光學(xué)元件清洗超純水設(shè)備采用PLC智能控制系統(tǒng)，豐富的顯示儀表，可隨時(shí)檢測(cè)設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)，全自動(dòng)運(yùn)行，無(wú)需人工值守。能夠?qū)崿F(xiàn)24小時(shí)連續(xù)工作，生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水，不會(huì)因?yàn)樵偕C(jī)。

使用光學(xué)元件清洗超純水設(shè)備進(jìn)行清洗的目的是確保產(chǎn)品質(zhì)量，避免水中其他雜質(zhì)對(duì)元件造成損害。如果您也是光學(xué)行業(yè)，想了解能多行業(yè)詳情，可君浩環(huán)保服務(wù)熱線：咨詢我們。