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中科院西安光機所發(fā)明“單晶硅爐水垢的清洗方法”

時間:2013/7/26閱讀:579
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 中科院西安光機所發(fā)明“單晶硅爐水垢的清洗方法”

目前,對單晶硅爐等精密機械的水垢清洗均采用單一的清洗液來進(jìn)行,但由于上述機械結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜且包含了多種不同材質(zhì)的零件,這樣造成采用單一的清洗液洗時無法*清除水垢,也可能導(dǎo)致部分材質(zhì)被腐蝕。無法*清除水垢會增加上述機械的實用成本,而腐蝕部分材質(zhì)時可能產(chǎn)生巨大的安全隱患。

  中科院西安光學(xué)精密機械研究所科研人員針對這一問題進(jìn)行了深入研究,發(fā)明出一種清洗單晶硅爐爐內(nèi)所形成水垢的清洗方法,主要應(yīng)用于單晶硅爐等精密機械的水垢清洗。該方法解決了現(xiàn)有清洗方法不能*清洗單晶硅爐爐內(nèi)的水垢,或清洗時可能造成單晶硅爐內(nèi)中其他材質(zhì)損壞的問題。

  該單晶硅爐水垢的清洗方法是:先將一定量的水放入帶有超聲波振蕩和加熱裝置的儲液箱,將水加熱至10~60℃;將酸液分別緩緩加入儲液箱,開啟超聲波進(jìn)行攪拌;通過清洗液的高速沖刷和反應(yīng)來清洗水垢等步驟處理,*清洗掉水垢。

  該方法于5月2日獲得發(fā)明*,號為“ZL201010574823.7”。

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