砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩及說明
技術(shù)要求
1. 儀器應(yīng)有銘牌，包括制造廠，出廠日期，規(guī)格。
2. 篩框平整光滑，無變形及折痕。
3. 篩面封接處應(yīng)能防止被物料堵塞。
4. 一套試驗(yàn)篩包括8個(gè)篩及篩底，篩蓋，篩框，內(nèi)徑均為300mm，試驗(yàn)篩基本尺寸如表1。 表1
砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩篩孔尺寸（mm） 10.0 5.0 2.50 1.25 0.630 0.315 0.160 0.080
孔 形 圓孔 圓孔 圓孔 方孔 方孔 方孔 方孔 方孔
板 厚（mm） 1.50 1.00 1.00
絲 徑（mm） 0.630 0.400 0.200 0.112 0.030
5. 圓孔篩的直徑尺寸偏應(yīng)符合表2的要求。 表2
圓孔基本尺寸（mm） 圓孔尺寸偏差（mm） *孔距
（mm） *板厚
（mm）
10.00 0.21 12.6 1.5
5.00 0.14 6.9 1.0
2.50 0.11 3.9 1.0
6. 方孔篩篩孔尺寸偏差應(yīng)符合表3的要求。 表3
砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩圓孔基本
尺寸W
（mm） 篩孔允許偏差 篩孔尺寸在（W+X）和（W+Z）之間的孔不大于 金屬絲直徑允許偏差
zui大偏差X 平均偏差Y 中間偏差Z=（X+Y）/2
1.25 0.16 0.04 0.10 6% 0.012
0.630 0.104 0.022 0.063 0.010
0.315 0.067 0.012 0.040 0.007
0.160 0.044 0.0069 0.025 0.004
0.080 0.030 0.0043 0.017 0.003
7. 單個(gè)篩孔尺寸不能大于基本尺寸W+zui大允許偏差X.。
8. 篩孔平均尺寸不能大于基本尺寸W+平均偏差Y，并不得小于W-Y。
9. 篩孔尺寸劃在（W+X）和（W+Z）之間的數(shù)不得超過篩孔總數(shù)的6%。
砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩校驗(yàn)用標(biāo)準(zhǔn)器具
10. 刻度放大鏡。分度值：0.008mm
四、校驗(yàn)方法
11. 目測(cè)或手感應(yīng)符合二、1、2、3的要求。
12. 用刻度放大鏡按二、4-9的要求檢驗(yàn)。
13. 篩網(wǎng)沿夾角為900或600的角兩邊直線方向進(jìn)行測(cè)量，每一
直線的長(zhǎng)度在100毫米以上，且至少含有5個(gè)孔。
砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩校驗(yàn)結(jié)果評(píng)定
14. 試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)篩必須滿足技術(shù)要求的全部指標(biāo)。
15. 校驗(yàn)周期壹年。
六、附錄
校驗(yàn)記錄表
砂試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)篩校驗(yàn)記錄表
砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩儀器編號(hào) ： 校驗(yàn)編號(hào)：
篩孔基本尺寸：
項(xiàng) 目 技術(shù)要求 校驗(yàn)數(shù)據(jù) 校驗(yàn)結(jié)果
zui大偏差（X）
平均偏差（Y）
中間偏差（Z）
（W+X）~（W+Z）% 6%
絲徑偏差
篩孔基本尺寸：
zui大偏差（X）
平均偏差（Y）
中間偏差（Z）
（W+X）~（W+Z）% 6%
砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩絲徑偏差
篩孔基本尺寸：
zui大偏差（X）
平均偏差（Y）
中間偏差（Z）
（W+X）~（W+Z）% 6%
絲徑偏差
篩孔基本尺寸：
zui大偏差（X）
平均偏差（Y）
中間偏差（Z）
（W+X）~（W+Z）% 6%
絲徑偏差
篩孔基本尺寸：
zui大偏差（X）
平均偏差（Y）
中間偏差（Z）
（W+X）~（W+Z）% 6%
絲徑偏差
砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩圓孔篩校驗(yàn)記錄
孔 徑 技術(shù)要求 校10.0 0.21
孔 徑 技術(shù)要求 校驗(yàn)數(shù)據(jù) 校驗(yàn)結(jié)果
5.00 0.14
砂石篩校，新標(biāo)準(zhǔn)方孔砂石篩，方孔砂石篩質(zhì)保期限細(xì)則：
儀器曾受到：非正常使用、非正常條件下存儲(chǔ)、暴露在潮濕環(huán)境中、暴露在溫度過高或過低溫度中、未經(jīng)我公司*的拆卸、修理、誤用、疏忽、濫用、事故、改動(dòng)、不正確的安裝、不可抗力、食物或液體濺落、儀器的正常磨損等。超出質(zhì)保期（一年）的 儀器 。
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