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FJD-11200AW槽式兆聲波清洗機(jī)

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更新時間：2023-08-20 10:13:44瀏覽次數(shù)：192次

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深圳市富嘉達(dá)超聲波設(shè)備有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品簡介

型號：FJD-11200AW槽式兆聲波清洗機(jī)（整機(jī)）振蕩方式：用晶體管電路產(chǎn)生自激振蕩兆聲功率：1200W振蕩頻率：1MHz950HZ振蕩器電源：AC200V、220V/6A振蕩器外形尺寸(mm)W×D×H：標(biāo)準(zhǔn)型

詳細(xì)介紹

型號：FJD-11200AW槽式兆聲波清洗機(jī)（整機(jī)）

振蕩方式：用晶體管電路產(chǎn)生自激振蕩

兆聲功率：1200W

振蕩頻率：1MHz950HZ

振蕩器電源：AC200V、220V/6A

振蕩器外形尺寸(mm)W×D×H：標(biāo)準(zhǔn)型。

使用液溫范圍：20～50℃

硅片清洗中的超聲波與兆聲波技術(shù)：

超兆聲波清洗是半導(dǎo)體工業(yè)中廣泛應(yīng)用的一種清洗方法,該方法的優(yōu)點是:清洗效果好,操作簡單,對于復(fù)雜的器件和容器也能清除,但該法也具有噪音較大、換能器易壞的缺點。

該法的清理原理如下：在強(qiáng)烈的超聲波作用下(常用的超聲波頻率為20kHz到40kHz左右),液體介質(zhì)內(nèi)部會產(chǎn)生疏部和密部,疏部產(chǎn)生近乎真空的空腔泡,當(dāng)空腔泡消失的瞬間,

其附近便產(chǎn)生強(qiáng)大的局部壓力,使分子內(nèi)的化學(xué)鍵斷裂，因此使硅片表面的雜質(zhì)解吸。當(dāng)超聲波的頻率和空腔泡的振動頻率共振時，機(jī)械作用力達(dá)到大，泡內(nèi)積聚的大量熱

能，使溫度升高，促進(jìn)了化學(xué)反應(yīng)的發(fā)生。

超聲波清洗的效果與超聲條件（如溫度、壓力、超聲頻率、功率等）有關(guān)，而且提高超聲波功率往往有利于清洗效果的提高，但對于小于1μm的顆粒的去除效果并不太好。該

法多用于清除硅片表面附著的大塊污染和顆粒。

兆聲波清洗技術(shù)：

兆聲波清洗不但保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲波清洗機(jī)的機(jī)理是由高能(850kHz)頻振效應(yīng)并結(jié)合化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對硅片進(jìn)行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運(yùn)動，大瞬時速度可達(dá)到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只

能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細(xì)小微粒被強(qiáng)制除去并進(jìn)入到清洗液中。

兆聲波清洗拋光片可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子,起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時起到機(jī)械擦片和化學(xué)清洗兩種方法的作用。目前兆聲波清洗方法已成為拋

光片清洗的一種有效方法。

FJD-11200AW槽式兆聲波清洗機(jī)槽式兆聲波清洗機(jī)系列（兆聲波清洗機(jī)）

超聲波超精密清洗：

利用被超聲波加速的水分子進(jìn)行清洗高頻清洗自于加速度的超聲波清洗是指被加速的水分子遇到工作，依靠水分子的沖擊力使臟物從工件上剝離。頻率越高效果越好，特別是對于附著力弱非常微小的臟物。加速度跟頻率的2次方成比例，因而頻率越高，波長越短，越適合于清洗微小的臟物。

FJD-11200AW槽式兆聲波清洗機(jī)系列（兆聲波清洗機(jī)）

隨著半導(dǎo)體的集成度的提高，在硅晶片的清洗工序里，除掉亞微米臟物成了提高成品率的重要因素。利用高頻超聲波進(jìn)行純水的精密清洗能夠符合這個要求。屬于高頻清洗的脈沖噴射清洗是在流水里加入了超聲波，，適合于清洗晶片，液晶玻璃等。

硅晶片及液晶玻璃的超聲波清洗：

對于硅晶片及液晶玻璃的超聲波清洗，需要滿足下面的條件。

1.不會損傷硅晶片

2.除掉亞微米臟物