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哈爾濱光催化氧化設備活性炭吸附除臭設備廠家？uv光解設備廠家-恒爾森。

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產(chǎn)品型號活性炭吸附塔

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更新時間：2018-05-15 15:14:46瀏覽次數(shù)：801次

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青島恒爾森環(huán)保技術有限公司

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產(chǎn)品簡介

青島恒爾森環(huán)保技術有限公司是一家設計、生產(chǎn)、銷售環(huán)評紙漿料油煙粉塵廢氣處理設備噴漆房廢氣活性炭吸附裝置等離子除臭設備光催化氧化除臭設備、印刷油墨廢氣處理污水廢氣處理等離子除臭設備，有機廢氣處理方案，內(nèi)部結(jié)構(gòu)，UV光催化氧化除臭設備、PP酸霧凈化塔涂料噴漆惡臭廢氣處理設備，為一體的綜合型*。致力于人類社會環(huán)境的改善，倡導環(huán)境友好型的生產(chǎn)，與您共建美好家園。

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哈爾濱光催化氧化設備活性炭吸附除臭設備廠家？uv光解設備廠家-恒爾森。

：186-6141-9579

光催化氧化分類
光降解通常是指有機物在光的作用下，逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物zui終生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。有機物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指有機物分子吸收光能后進一步發(fā)生的化學反應。后者是周圍環(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài)，再誘導一系列有機污染的反應。間接光降解對環(huán)境中難生物降解的有機污染物更為重要。

利用光化學反應降解污染物的途徑，包括無催化劑和有催化劑參與的光化學氧化過程。前者多采用氧和作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解；后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過photo-Fenton反應產(chǎn)生·HO使污染物得到降解，非均相光催化降解中較常見的是在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料，同時結(jié)合一定量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產(chǎn)生·HO等氧化性*的自由基，再通過與污染物之間的加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部礦化。