詳細介紹

主要特點:

數(shù)顯分辨率：0.01℃

溫度波動值：±0.02℃

溫度均勻度：±0.05℃ 水平/垂直

溫度范圍可控制：-120~100℃ 

技術(shù)參數(shù):

低溫恒溫槽，又稱低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應(yīng)用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學(xué)分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質(zhì)檢部門。根據(jù)槽開口尺寸的不同，可在浴槽內(nèi)進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設(shè)備相連接，與恒溫源配套使用。內(nèi)循環(huán)：通過泵對槽內(nèi)液體介質(zhì)的循環(huán)吞吐，增加槽內(nèi)溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環(huán)：通過泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設(shè)備連接，形成封閉回路，流回設(shè)備進水口，是將槽內(nèi)恒溫介質(zhì)外引，建立外部恒溫場。

循環(huán)水恒溫的應(yīng)用領(lǐng)域：

生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗機、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、*機、科研冷帽、降溫毯等等。物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。

產(chǎn)品特點：

節(jié)約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用，節(jié)約大量的水資源。

效率更高——一臺循環(huán)水設(shè)備可同時滿足多臺外部設(shè)備的冷卻需求，持續(xù)提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。

控溫精度——PID控溫技術(shù)，內(nèi)置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數(shù)字顯示，操作直觀

安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種安全保障功能。

低溫不凍液配比

A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）

B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其zui低溫度必須在0℃以上。

●可選配功能指南

1.可選配加長外接式PT100溫度傳感器，可實時檢測和控制外循環(huán)時外部體系的溫度。

2.可選配內(nèi)置1~30段溫度控制程序，可進行自動程序控溫，實時顯示設(shè)定溫度-時間程序運行狀態(tài)。

3.可選配RS232或RS485通訊接口，輕松連接上位機，帶有ModbusRTU通訊協(xié)議。

4.可選配設(shè)計、安裝磁力攪拌系統(tǒng)，可把放入恒溫槽工作室內(nèi)燒杯中的液態(tài)樣品直接進行磁  力攪拌，無需外接立式攪拌機，減少冗繁操作。

5.可選配槽體內(nèi)置的冷卻盤管，對系統(tǒng)的放熱反應(yīng)進行快速的降溫和控制。

6.可選配高度可調(diào)浸入式載物平臺，輕松調(diào)節(jié)浸入樣品的液面高度。

7.可選配臥式造形，具有結(jié)構(gòu)緊湊、重心降低、穩(wěn)定性強等特點。

冷卻水選型相關(guān)：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應(yīng)器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設(shè)備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于X－衍射儀、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設(shè)備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設(shè)備。

應(yīng)用范圍：

對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質(zhì)的純凈水在機內(nèi)外循環(huán)冷卻，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。

常見問題解答：

1、水循環(huán)使用了一年多都很正常，可現(xiàn)在制冷速度好像越來越慢了，在氣溫越高時越明顯？

答：水循環(huán)使用很簡單，但是定期的維護保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實就是沒有定期做維護保養(yǎng)引起的。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風(fēng)罩處的散熱器中排走，如果前通風(fēng)罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發(fā)，制冷效果將大打折扣。一般來說在正常的使用條件下制冷量下降都是因為通風(fēng)散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的。

2、水循環(huán)以前使用都很正常，可現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)噪音比以前大很多，這是什么原因？

答：前面提到過水循環(huán)的日常維護工作，這個問題也與之有關(guān)。大家都知道，水里面有很少部分的雜質(zhì)，就是蒸餾水在加到水箱后也不可能*保證一點雜質(zhì)都沒有。對于水循環(huán)而言，一般溫度都設(shè)置在20℃，特別適應(yīng)微生物的生長和繁衍。時間長了以后這些微生物就會堵塞水路的過濾器造成回水不暢，水泵就會有較大的噪音。有時這些微生物附在了換熱器的表面，造成換熱器的傳熱效果變差，制冷量變小。所以一定要嚴格按照說明書中的要求做好日常維護工作，定時清洗內(nèi)槽，*停用，保持槽內(nèi)干燥。水循環(huán)里面好像有漏水，有時地面一會兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般來說在正常使用的過程中，水路是不會有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時，在水循環(huán)的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結(jié)露水，累積多了以后就滴到地面上了，不用擔心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話，打開空調(diào)降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產(chǎn)生。