UV光解等離子除臭設(shè)備在治理惡臭有機(jī)廢氣治理中的作用
UV光解等離子除臭設(shè)備在治理有機(jī)惡臭廢氣治理中的作用 惡臭氣體是指揮發(fā)性物質(zhì)分子在空氣中擴(kuò)散，被吸入人體的嗅覺(jué)器官而引起不愉快的氣體。惡臭物質(zhì)存在于水體、固體廢物和大氣中，在這些惡臭物質(zhì)中對(duì)人體危害比較大的主要 有硫化氫、氨、硫醇類、甲基硫、*胺、甲醛、鉻硫、苯乙烯、酚類等。
具體的說(shuō)，惡臭 的來(lái)源有以下幾個(gè)方面：工業(yè)惡臭、農(nóng)牧業(yè)惡臭、城市公共設(shè)施惡臭、燃料燃燒惡臭、餐飲 油煙惡臭、機(jī)動(dòng)車廢氣惡臭、惡臭化學(xué)物質(zhì)。 利用高能高臭氧 UV 紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧 所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合， 進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。 工業(yè)廢氣利用排風(fēng)設(shè)備輸入到UV光解等離子除臭設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能 UV 紫外線光束及臭氧對(duì)工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)， 使工業(yè)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。利用高能 UV 光束裂解工業(yè)廢氣中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行 氧化反應(yīng)，*達(dá)到凈化及殺滅細(xì)菌的目的．
離子凈化技術(shù)正是基于這種理論進(jìn)行研發(fā)的。在電場(chǎng)作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的α粒子， α粒子與空氣中的氧分子進(jìn)行碰撞而形成正、 負(fù)氧離子。正氧離子具有很強(qiáng)的氧化性，能在極短的時(shí)間內(nèi)氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫等污染因子，且在與 VOC 分子相接觸后 打開有機(jī)揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵， 經(jīng)過(guò)一系列的反應(yīng)， zui終生成二氧化碳和水等穩(wěn)定無(wú)害的小 分子。同時(shí)，氧離子能破壞空氣中細(xì)菌的生存環(huán)境，降低室內(nèi)空間細(xì)菌濃度，帶電離子可以 吸附大于自身重量幾十倍的懸浮顆粒，靠自重沉降下來(lái)，從而清除空中懸浮膠體，達(dá)到凈化 空氣的目的。
UV光解等離子除臭設(shè)備是由離子發(fā)生器、離子傳送管、控制系統(tǒng)組成、用來(lái)除臭、清除異味的空氣凈化設(shè)備，普遍應(yīng)用于工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場(chǎng)所。常見的有等離子 除臭設(shè)備、高能離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備。離子除臭設(shè)備的主要原理是在高壓電場(chǎng) 作用下，產(chǎn)生大量的正、負(fù)氧離子，具有很強(qiáng)的氧化性。能在極短的時(shí)間內(nèi)氧化、分解甲硫 醇、氨、硫化氫、醚類、胺類等污染臭氣因子，打開有機(jī)揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵，zui終生成二 氧化碳和水等穩(wěn)定無(wú)害的小分子，從而達(dá)到凈化空氣的目的。
UV光解等離子除臭設(shè)備適用于：垃圾、 污水廠等市政設(shè)施，以及制藥廠、油漆廠、涂料廠、皮革廠、石油化工、制藥廠、 印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業(yè)場(chǎng)所。 降解揮發(fā)性有機(jī)污染物(VOCs)傳統(tǒng)的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒等，對(duì)于低濃 度的 VOCs 很難實(shí)現(xiàn)， 而光催化降解 VOCs 又存在催化劑容易失活的問(wèn)題， 利用低溫等離子 體處理 VOCs 可以不受上述條件的限制， 具有潛在的優(yōu)勢(shì)。 但由于等離子體是一門包含放電 物理學(xué)、放電化學(xué)、化學(xué)反應(yīng)工程學(xué)及真空技術(shù)等基礎(chǔ)學(xué)科之上的交叉學(xué)科。因此, 目前能 成熟的掌握該技術(shù)的單位非常的少。 大部分宣傳采用低溫等離子技術(shù)處理廢氣的宣傳都不是真正意義上的低溫等離子廢氣處理技術(shù)。
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