UV光解等離子除臭設(shè)備 廢氣凈化技術(shù)的研發(fā)
UV光解等離子除臭設(shè)備 廢氣凈化技術(shù)的研發(fā)
UV光解等離子除臭設(shè)備是由離子發(fā)生器、離子傳送管、控制系統(tǒng)組成、用來除臭、清除異味的空氣凈化設(shè)備，普遍應(yīng)用于工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場所。常見的有等離子 除臭設(shè)備、高能離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備。離子除臭設(shè)備的主要原理是在高壓電場 作用下，產(chǎn)生大量的正、負(fù)氧離子，具有很強(qiáng)的氧化性。能在極短的時間內(nèi)氧化、分解甲硫 醇、氨、硫化氫、醚類、胺類等污染臭氣因子，打開有機(jī)揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵，zui終生成二 氧化碳和水等穩(wěn)定無害的小分子，從而達(dá)到凈化空氣的目的。
UV光解等離子除臭設(shè)備適用于：垃圾、 污水廠等市政設(shè)施，以及制藥廠、油漆廠、涂料廠、皮革廠、石油化工、制藥廠、 印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業(yè)場所。 降解揮發(fā)性有機(jī)污染物(VOCs)傳統(tǒng)的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒等，對于低濃 度的 VOCs 很難實現(xiàn)， 而光催化降解 VOCs 又存在催化劑容易失活的問題， 利用低溫等離子 體處理 VOCs 可以不受上述條件的限制， 具有潛在的優(yōu)勢。 但由于等離子體是一門包含放電 物理學(xué)、放電化學(xué)、化學(xué)反應(yīng)工程學(xué)及真空技術(shù)等基礎(chǔ)學(xué)科之上的交叉學(xué)科。因此, 目前能 成熟的掌握該技術(shù)的單位非常的少。 大部分宣傳采用低溫等離子技術(shù)處理廢氣的宣傳都不是真正意義上的低溫等離子廢氣處理技術(shù)。
離子凈化技術(shù)正是基于這種理論進(jìn)行研發(fā)的。在電場作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的α粒子， α粒子與空氣中的氧分子進(jìn)行碰撞而形成正、 負(fù)氧離子。正氧離子具有很強(qiáng)的氧化性，能在極短的時間內(nèi)氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫等污染因子，且在與 VOC 分子相接觸后 打開有機(jī)揮發(fā)性氣體的化學(xué)鍵， 經(jīng)過一系列的反應(yīng)， zui終生成二氧化碳和水等穩(wěn)定無害的小 分子。同時，氧離子能破壞空氣中細(xì)菌的生存環(huán)境，降低室內(nèi)空間細(xì)菌濃度，帶電離子可以 吸附大于自身重量幾十倍的懸浮顆粒，靠自重沉降下來，從而清除空中懸浮膠體，達(dá)到凈化 空氣的目的。
