在化學(xué)鍍鎳過程中，需要還原劑提供電子給鎳離子，以便鎳離子還原為鎳金屬，在大多數(shù)的化學(xué)鍍液中，多采用次磷酸鈉為還原劑，這就導(dǎo)致清洗廢水中含有磷，而且磷的狀態(tài)多為次亞磷，湛清環(huán)保實驗室研發(fā)人員針對含磷電鍍廢水，針對性地研發(fā)了除磷劑HMC-P3，解決電鍍廢水含磷不達標(biāo)問題。除磷劑 次亞磷去除劑 全國銷售 表三標(biāo)準(zhǔn) 清華技術(shù)

    1.電鍍含次磷廢水的傳統(tǒng)工藝

    傳統(tǒng)除磷工藝多采用石灰或者其他鋁鹽所制成的除磷劑除磷，這種除磷劑能夠與正磷結(jié)合形成沉淀，從而把磷去除，對于一些含磷廢水比較適用；然而對于化學(xué)鍍鎳廢水中的磷，由于其狀態(tài)是次磷，無法與石灰生成穩(wěn)定的沉淀物，因此用傳統(tǒng)的工藝法無法使電鍍廢水除磷達標(biāo)。也有不少環(huán)保公司提出使用芬頓氧化技術(shù)或者次氯酸鈉氧化技術(shù)先把次磷氧化為正磷，而后再加除磷劑進行除磷，但是由于芬頓氧化技術(shù)有限，無法*把次磷氧化為正磷，因此使用該法除磷時，無法把磷做到0.5ppm以下，只能達到幾個ppm，甚至在10以上。除磷劑 次亞磷去除劑 全國銷售 表三標(biāo)準(zhǔn) 清華技術(shù)

    2.除磷劑HMC-P3在電鍍含次磷廢水的應(yīng)用

    湛清環(huán)保除磷劑HMC-P3，針對電鍍廢水除磷，能夠去除電鍍廢水中的次亞磷，與傳統(tǒng)處理辦法不同，HMC-P3是一種多相無機鹽，在催化劑催化作用下，能夠通過均相共沉淀的原理與次亞磷結(jié)合形成沉淀物，從而把次磷去除，通過湛清環(huán)保實驗人員的無數(shù)次實驗驗證，電鍍廢水次磷的濃度經(jīng)處理可以降低至0.5ppm以下，*達到國家表三排放標(biāo)準(zhǔn)。    
    3. 除磷劑HMC-P3的使用方法
    湛清環(huán)保研發(fā)的除磷劑HMC-P3適用于電鍍行業(yè)加工清洗產(chǎn)生的電鍍廢水、電子制造加工行業(yè)零部件生產(chǎn)加工的廢水、磷單質(zhì)水解廢水等。
    使用湛清環(huán)保除磷劑P3，操作簡單，首先運用傳統(tǒng)工藝將廢水調(diào)節(jié)pH值至酸性，然后根據(jù)廢水量分別加入適量的次磷去除劑和雙氧水，反應(yīng)達到一定時間后，再將廢水pH值調(diào)節(jié)至中性，加入絮凝劑，經(jīng)一定時間再次沉淀后，出水，磷即可達標(biāo)。除磷劑P3因其操作相對簡單，處理成本低，出水清澈透明，具有除磷、除重金屬、降COD等多重功效，因而被電鍍生產(chǎn)廠商、電子制造加工廠商們廣泛應(yīng)用。