一 產(chǎn)品用途

適用于硅半導(dǎo)體材料的多線切割，硅半導(dǎo)體的晶塊內(nèi)圓切削的潤(rùn)滑、降溫、清洗防銹。

二 性能特點(diǎn)

●*的攜載性能、懸浮性能；

●克服了傳統(tǒng)中性切削液?jiǎn)我粰C(jī)械作用的缺點(diǎn)，將化學(xué)劈裂作用與機(jī)械切割作用*的結(jié)合在一起，作用力均一穩(wěn)定，有效解決了切片工藝中的應(yīng)力腐蝕問(wèn)題，從而大幅度降低了損傷；

●有效解決了切屑和切粒粉末的再沉積問(wèn)題，避免了硅表面的化學(xué)鍵合吸附現(xiàn)象，便于硅片的清洗和后續(xù)加工；

●散熱效果好

●無(wú)離子污染，有效消除金屬離子尤其鐵離子的污染；

●良好的清洗滲透性能，可防止工具磨具鈍化，對(duì)磨具具有良好的自銳作用，提高工具的切削力，延長(zhǎng)工具的使用壽命，縮短單個(gè)工件加工時(shí)間；

●突出的潤(rùn)滑性能，明顯降低切削工件時(shí)產(chǎn)生的噪音，減少劃痕、表面粗超、崩邊、碎片等現(xiàn)象的出現(xiàn)，明顯改善加工工件的表面質(zhì)量，大幅度提高工件的光潔度。

●良好的防銹性能，抗腐臭性能，產(chǎn)品穩(wěn)定性好，使用壽命長(zhǎng)；

●水性環(huán)保產(chǎn)品；

三 理化指標(biāo)

四 使用方法

1、使用新鮮水質(zhì)或蒸餾水稀釋使用；

2、一般切割：建議使用濃度：10—20%；

3、對(duì)于帶磨料的研磨切削：建議高濃度使用，以現(xiàn)場(chǎng)工藝要求確定*使用濃度。

五 注意事項(xiàng)

保持切削液的清潔，禁止混入金屬切屑、機(jī)油、線毛等雜物；禁止用工作液洗手、洗抹布；