超純水：既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。純度*的水，電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。在集成電路工業(yè)中用于半導(dǎo)體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。如今超純水已在生物、醫(yī)藥、汽車等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。

二、產(chǎn)品特點(diǎn)：

電子廠純水反滲透系統(tǒng)成套設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使工業(yè)超純水設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。

三、工藝流程；

電子廠純水反滲透系統(tǒng)成套設(shè)備工藝大致分為以下幾種：

1、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

2、采用離子交換樹(shù)脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→陽(yáng)床→陰床→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原?rarr;沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

四、應(yīng)用領(lǐng)域；

1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；

2、超純材料和超純化學(xué)試劑；

3、實(shí)驗(yàn)室和中試車間；

4、汽車、家電表面拋光處理；

5、光電產(chǎn)品；

6、其他高科技精微產(chǎn)品。