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*混懸液分散機

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更新時間：2016-08-15 10:33:06瀏覽次數(shù)：686次

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上海依肯機械設(shè)備有限公司

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聯(lián)系人：段明明（銷售工程師）

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產(chǎn)品簡介

*混懸液分散機，為了降低沉降系數(shù)，我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數(shù)。*混懸液粒徑的細化，取決于分散設(shè)備的選擇。如果采用IKN研磨分散機的話，不僅可以對*混懸液粒徑進行細化，還可以將混懸液分散的更均勻。這取決于上海依肯研磨分散機的特殊設(shè)計，IKN研磨分散機將膠體磨和分散機合二為一，先研磨細化粒徑，再對物料進行分散，使*混懸液更加細膩、均勻、穩(wěn)定。

詳細介紹

*混懸液分散機，*醫(yī)藥混懸液分散機，*混懸液研磨分散機，醫(yī)藥混懸液分散機，醫(yī)藥混懸液研磨分散機

*是由顆粒極細的含水鋁硅酸鹽，較早的資料就有資料記載其具有藥用效果，如在《本草綱目拾遺》中介紹膨潤土可用于治療外傷和解毒，并將其歸納為中藥的一種。*混懸液由主藥*、助懸劑、矯味劑等組成，用于治療腹瀉及消化道潰瘍等*。其具有服用劑量準確、服用攜帶方便、粒度較細、服用后可快速分散到人體消化道、效果更好等多種優(yōu)點。鑒于此，我們擬將*制備成混懸劑以克服上述*散劑的缺點?；鞈乙旱闹苽湓瓌t首先是使粉粒潤濕并在液體分散介質(zhì)中均勻分散，保持一定條件使其盡量不聚集，然后采取一定的措施防
止結(jié)塊。

制備方法通?；鞈乙旱挠袃煞N：分散法和凝聚法。由于*本身的性質(zhì)我們采用的是分散法，混懸液中微粒的大小不僅關(guān)系到混懸液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，也會影響混懸液的藥效和生物利用度。所以測定混懸液中微粒大小及其分布，是評定混懸液質(zhì)量的重要指。由于本研究的*采用的是法國益普生公司研制的商品名為思密達的*散劑，故其微粒大小符合要求，無需測其微粒大小。

*混懸液分散機，當*混懸液的工藝配方確定時，為了降低沉降系數(shù)，我們可以通過減小粒子的半徑來縮小沉降系數(shù)。*混懸液粒徑的細化，取決于分散設(shè)備的選擇。如果采用IKN研磨分散機的話，不僅可以對*混懸液粒徑進行細化，還可以將混懸液分散的更均勻。這取決于上海依肯研磨分散機的特殊設(shè)計，IKN研磨分散機將膠體磨和分散機合二為一，先研磨細化粒徑，再對物料進行分散，使*混懸液更加細膩、均勻、穩(wěn)定。

CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

如有疑問請致電IKN銷售工程師，IKN全體員工將竭誠為您服務(wù)！ IKN主：www.iknchina。。ｃｏｍ段明明

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

*混懸液CMD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

選型表

CMD2000系列研磨分散機		流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
CMD2000/4		300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5		1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10		2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20		5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30		8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50		15000	1100	23	110	DN200/DN150
	流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。