E-Cell® 可靠的EDI模塊技術(shù)對于各種處理水量都具有費效比高的特點，現(xiàn)在該技術(shù)已經(jīng)成為勿需化學品再生的EDI技術(shù)的行業(yè)標準。EDI模塊MK-2E主要用于電力、化工、公用事業(yè)領域，具有勿需化學品再生，不產(chǎn)生危險廢液，操作簡單連續(xù)，設備技術(shù)要求低。
美國GE膜公司的EDI模塊MK-2E產(chǎn)品與其他公司EDI的區(qū)別就在于采用了濃水循環(huán)系統(tǒng)技術(shù)，濃水室加鹽主要影響是可減少濃水室中Ca2+&Mg2+攜帶電流的機會，降低Ca2+ &Mg2+流動通量、降低結(jié)垢的速率，次要影響是增加濃水室的離子強度，增加對垢類的溶解、降低垢類形成的機會，這正是EDI模塊MK-2E清洗頻率低、經(jīng)久耐用的因素之一。
EDI模塊MK-2E產(chǎn)水參數(shù)
| 產(chǎn)水參數(shù) | 美制單位 | 國際單位 |
| 單個模塊產(chǎn)水量 | 7.5-20 gpm | 1.7-4.5 m3/h |
| 電阻率 | >16 Mohm.cm | >16 Mohm.cm |
| 硅(SiO2) | <5到<20 ppb | <5到<20 ug/L |
| 鈉 | <2 ppb | <2 ug/L |
| 硼 | 去除率>95% | 去除率>95% |
EDI模塊MK-2E進水參數(shù)
| 進水參數(shù) | 美制單位 | 國際單位 |
| 進水總可交換陰離子(TEA) | <49 ppm | <49 ppm |
| 硅(SiO2) | <500ppb | <500 ug/L |
| TOC | <0.5 ppm | <0.5 mg/L |
| 工作溫度范圍 | 40-100℉ | 4.4-38℃ |
| 硬度 | <0.5 ppm | <0.5 mg/L |
| 用CLS測試法測試硬度 | <3 ppm | <3 mg/L |
EDI模塊MK-2E運行參數(shù)
| 運行參數(shù) | 美制單位 | 國際單位 |
| 額定回收率 | 90-95% | 90-95% |
| 額定直流電消耗量 | 0.2-1.5 kWh/1000加侖 | 0.05-0.4 kWh/m3 |
| 進水壓力 | 45-100psi | 3.1-6.9 bar |
| 進水與出水的壓降 | 20-50psi | 1.4-3.4bar |
| 外形尺寸 | 12"W*19"D*24"H | 30cmW*48cmD*61cmH |
| 重量 | 202 Ibs | 92 kg |
EDI模塊MK-2E產(chǎn)品特點
1、為電力、半導體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水。
2、連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級質(zhì)量的超純水。
3、無需對模塊內(nèi)的混床樹脂進行酸堿再生。
4、保證不漏水。
5、EDI模塊MK-2E無需鹽水注入和濃水循環(huán)，簡化了設計。
環(huán)保在線