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主要參數(shù):
工作腔室:150mm內(nèi)徑 x 127mm高
觸摸屏全圖像用戶界面
樣品臺(tái):標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái)
真空系統(tǒng):
渦輪分子泵:帶有空氣冷卻的渦輪分子泵
旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵:雙級旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵
濺射電流:0-150mA;可預(yù)設(shè)膜厚(需FTM選項(xiàng))或使用內(nèi)置定時(shí)器
濺射時(shí)間:zui長60分鐘
碳蒸發(fā):穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā),確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。
金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭:用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)。
尺寸和重量:儀器機(jī)箱:585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm)
儀器總重量:33.4Kg
產(chǎn)品描述:
金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計(jì),節(jié)約空間
精細(xì)顆粒濺射:高分辨率場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)制樣的精細(xì)鍍膜應(yīng)用
渦輪分子泵高真空系統(tǒng):允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜,大大拓寬了可濺射靶材范圍,既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用,也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺(tái)
全自動(dòng)觸摸屏控制:快速數(shù)據(jù)輸入,簡單操作
可儲(chǔ)存多個(gè)客戶自定義鍍膜方案:對多用戶實(shí)驗(yàn)室十分理想
與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動(dòng)真空控制
精細(xì)的厚度控制:使用膜厚監(jiān)控選項(xiàng)
“智能”式系統(tǒng)識別:自動(dòng)感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型
高真空碳蒸鍍:對SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想
蒸發(fā)電流波形控制
Drop-in落入式快換樣品臺(tái)(標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái))
真空閉鎖功能:可讓工作腔室處于真空狀態(tài),改善后續(xù)真空效果,或在真空條件下保存樣品
鍍制厚膜能力:一次真空條件下的濺射時(shí)間可長達(dá)60分鐘(材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用)
人體工程學(xué)設(shè)計(jì)的整體成型機(jī)殼:易維護(hù)和易拆裝
帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口:簡單的程序更新
設(shè)有功率因素補(bǔ)償,有效利用電能,降低運(yùn)行成本
符合當(dāng)前電器法規(guī)(CE認(rèn)證)
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