- 儀器簡介：
- 微區(qū)X射線熒光光譜分析技術(shù)是對不均勻樣品、不規(guī)則樣品、甚至小件樣品和包裹物進(jìn)行高靈敏度的、非破壞性的元素分析的*方法。采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡將激發(fā)光聚焦到非常小的區(qū)域，以獲得的空間分辨率，進(jìn)行快速分析。任何類型的樣品都可以通過簡單的樣品制備甚至不制備直接進(jìn)行分析。
技術(shù)參數(shù)：
技術(shù)參數(shù)
樣品類型 固體、顆粒、液體、多層膜
樣品室尺寸 W×D×H：600×350×260mm
樣品臺尺寸 W×D：330×170mm
測量氣氛 大氣/真空，在100秒內(nèi)準(zhǔn)備就緒
樣品移動(dòng) zui大移動(dòng)范圍 W×D×H：270×240×120mm
移動(dòng)速度 渦輪增速樣品臺zui大移動(dòng)速度可達(dá)100mm/s
激發(fā) 配多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡的高強(qiáng)度X射線光管
選項(xiàng)：可同時(shí)使用不同靶材的雙光管
X射線光管參數(shù)
靶材 Rh，可選靶材：Mo，Ag，Cu，W
電壓 50kV,800μA
光斑大小 小于30μm（對于Mo-K）
濾光片 根據(jù)用戶要求，zui多6塊濾光片
探測器 XFlash?硅漂移探測器
選項(xiàng)：可zui多同時(shí)使用3個(gè)探測器
探測器參數(shù)
有效面積 10mm2，選項(xiàng)：30mm2
能量分辨率 計(jì)數(shù)率250,000cps時(shí)分別優(yōu)于125eV、135eV
儀器控制 *的PC機(jī)，Windows XP或Vista操作系統(tǒng)
儀器控制功能 光管參數(shù)、濾光片、光學(xué)顯微鏡、樣品照明和樣品定位的全面控制
光譜評估 譜峰識別、人工和自動(dòng)背景校正、峰面積計(jì)算、對于塊狀樣品和多層膜樣品基于標(biāo)樣和無標(biāo)樣模式的定量分析
分布分析 “飛行中”測量模式，HyperMap軟件功能
結(jié)果顯示 定量結(jié)果、統(tǒng)計(jì)計(jì)算、元素分布（線掃描、面分布）
電源要求 110-240V（1P），50/60Hz
尺寸（寬×深×高） 815×680×580mm，130kg
質(zhì)量和安全 DIN EN ISO 9001:2000認(rèn)證, CE認(rèn)證
*輻射防護(hù)系統(tǒng)；輻射劑量＜1μSv/h
主要特點(diǎn)：- M4 TORNADO采用了全新的技術(shù)，為各種用戶提供了*的分析性能和非常方便的操控性。
- 采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡，照射光斑zui小，空間分辨率zui高。
- 渦輪增速X-Y-Z樣品臺，借助放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)獲得高品質(zhì)的樣品影像，可在“飛行中”進(jìn)行元素分布分析。
高強(qiáng)度的X射線光管與多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡相結(jié)合，確保在非常小的照射區(qū)域內(nèi)獲得非常高的激發(fā)強(qiáng)度。采用濾光片和可以同時(shí)使用的配有不同靶材的雙光管，可以根據(jù)不同的分析要求，優(yōu)化激發(fā)光譜。 - 使用XFlash?探測器超高速地獲取樣品圖譜，另外，使用多個(gè)探測器可以進(jìn)一步提高測量速度。
- 采用無標(biāo)樣分析法精確定量分析塊狀樣品，精確分析多層膜樣品。
可抽真空的樣品室配有自動(dòng)門，大尺寸的樣品室可以放置各種尺寸的樣品。通過兩個(gè)放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)觀察樣品（整體觀察和分析區(qū)域的細(xì)致觀察），便捷進(jìn)樣功能和自動(dòng)對焦功能可以進(jìn)行快速而精確的定位。通過用戶編輯的X-Y-Z樣品臺運(yùn)行程序可實(shí)現(xiàn)重復(fù)測量。
