OX400-3-A-T-E-H氧化鋯氧分析儀
OX400-5-N-T-E-H、OX400-5-A-T-E-H、OX400-5-N-R-E-H、OX400-3-A-T-E-H
一、特性：
1、技術(shù)特性：
重復性：±1%F.S.（10，100，1000 ppm，1%，10%或100%）
線性：±2%F.S.；±3%F.S.（0~100ppm或更低）
響應時間：90%響應，10秒內(nèi)（0~1%或更高），30秒內(nèi)（小于0~1%）
漂移：±2%F.S./周
2、使用壽命長，響應速度快
由于使用了橫河電機的新型薄膜沉積技術(shù)，傳感器的壽命周期提高了三倍
3、圓柱形傳感器設(shè)計便于置換被測氣體，確保高速響應
4、高性能和高可靠性
即使在低氧濃度下，仍具有*的精度和線性
5、在不同應用中，可選擇泵式或抽提采樣方式
6、內(nèi)置功能和多種自診斷功能
自帶多選擇器，自動量程，特定量程以及泵開/關(guān)功能
提供多種自診斷功能，以檢測故障，如加熱器溫度錯誤，溫度傳感器斷偶和傳感器電阻值錯誤
7、出眾的維護性
可現(xiàn)場更換傳感器
小型輕量，易于安裝
二、產(chǎn)品功能簡介：
橫河電機推出的氧分析儀OX400，是公司在該技術(shù)的長期經(jīng)驗積累和優(yōu)秀業(yè)績基礎(chǔ)上研發(fā)出來的。
低濃度氧化鋯氧分析儀OX400的氧化鋯傳感器中采用了新型薄膜沉積技術(shù)，在氧化鋯元素和鉑層間建立了分子聯(lián)接。這樣不僅預防剝離，還可以減小傳感器尺寸，確保高速響應和長壽命。
低濃度氧化鋯氧分析儀OX400可用于控制和監(jiān)視各種半導體應用，并控制環(huán)境，空氣泄漏入惰性氣體及其他過程。
- 用于半導體擴散爐和烘干爐，以及LCD制造工藝中的氧氣濃度控制
- 用于控制錫焊爐氣流和回流爐中氣體的氧氣濃度，以及電子制造中使用的手套箱和氣體生產(chǎn)工藝中氧氣濃度的測量
- 測量氧氣濃度，防止粉塵運輸中粉塵爆炸
| 測量對象 | 惰性氣體中的氧氣濃度 （易燃性氣體、二氧化硅、腐蝕性氣體或液體（包括水蒸氣）除外） | ||||||||
| 測量系統(tǒng) | 氧化鋯系統(tǒng) | ||||||||
| 采樣方法 | 泵式，抽提式等 | ||||||||
| 樣氣條件 | 流速: 200 ± 25ml/min（僅用于傳感器） 溫度: 0~50℃（無結(jié)露） 濕度: 無結(jié)露 壓力: 0~300PaG zui大容許壓力: 30kPaG | ||||||||
| 測量量程 | 0-10ppm O2至0-100vol% O2 | ||||||||
| 輸出量程 |
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| 模擬輸出 | 2路輸出， 一次: 4～20mA DC（zui大負載電阻: 550Ω） 二次: 可選為0~1，0~5，0~10V DC（負載電阻: 10kΩ或更大） | ||||||||
| 接點輸出 |
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| 接點輸入 | 1點: 采樣氣體吸入泵的遠程ON/OFF | ||||||||
| 自診斷 |
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| 串口通信 | RS-232，38400 bps | ||||||||
| 標定方法 | （1）3點: 10ppm，1000ppm，空氣，（2）2點: 可設(shè)定為零點氣和量程氣標定，（3）1點，（4）空氣標定 | ||||||||
| 暖機時間 | 20分以內(nèi) | ||||||||
| 電源 | 100 - 120V AC/220 - 240V AC，50/60Hz | ||||||||
| 功耗 | 100～120V AC，200VA zui大，220～240V AC，400 VA zui大 | ||||||||
| 尺寸 | 213 （W） x 132 （H） x 約375 （D） mm | ||||||||
| 質(zhì)量 | 約5kg | ||||||||
| 管線連接 | 氣體入口: Rc1/4或1/4NPT內(nèi)螺紋 氣體出口: Rc1/4或1/4NPT內(nèi)螺紋 | ||||||||
| 環(huán)境條件 |
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| 符合的安全標準 和EMC標準 |
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四、特性：
| 重復性 | ±1%F.S.（10，100，1000 ppm，1%，10%或100%） |
| 線性 | ±2%F.S. ±3%F.S.（0~100ppm或更低） |
| 響應時間 | 90%響應 10秒內(nèi)（0~1%或更高） 30秒內(nèi)（小于0~1%） |
| 漂移 | ±2%F.S./周 |
