ESCALAB 250Xi XPS 光電子能譜儀
ESCALAB 250Xi X射線光電子能譜儀結(jié)合了高靈敏度與高分辨率定量成像以及多種測試技術(shù)能力。
XPS是眾多材料特性表征技術(shù)中行之有效的測試手段。目前已成為從生物材料到半導(dǎo)體材料等許多技術(shù)領(lǐng)域*材料開發(fā)的重要工具。ESCALAB250Xi 能夠滿足不斷增長的分析性能和靈活性的需求。此外，ESCALAB250Xi 提供的可選表面分析技術(shù)可用于補(bǔ)充應(yīng)用 XPS 所獲取的表征信息。*的Avantage數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)確保了從測試數(shù)據(jù)中挖掘盡可能多的信息。
ESCALAB250Xi 配備了微聚焦X射線單色器，提供優(yōu)化的XPS性能。其市場的靈敏度確保了zui大樣本量。XPS并行成像是選擇橫向分辨率的方法，ESCALAB250Xi提供的成像空間分辨率優(yōu)于<3μm。開發(fā)的成像檢測器提供了“免簽名“的定量數(shù)據(jù)。多技術(shù)能力和系列預(yù)備室及各種設(shè)備的可用性，確保該儀器將提供任何表面分析問題的解決方案。
主要特點(diǎn)
- 高靈敏度能量分析器
- 標(biāo)配X射線單色器
- 小面積XPS
- 成像空間分辨率<3µm
- 定量成像
- 深度剖析性能
- 角分辨 XPS
- 微聚焦單色器
- 標(biāo)準(zhǔn)配置包含離子散射能譜（ISS）
- 標(biāo)準(zhǔn)配置包含反射電子能量損失譜（REELS）
- 標(biāo)準(zhǔn)配置包含預(yù)備室
- 多技術(shù)分析功能
- 多種樣品制備選項(xiàng)
- 全自動(dòng)無人值守式分析
- 多樣品分析
- 基于Windows 的Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)
- 雙晶體微聚焦單色器擁有500 mm直徑羅蘭圓，使用鋁陽極
- 用戶可選擇200微米至900微米任何大小X射線光斑照射樣品
- 透鏡/分析器/檢測器一體化使ESCALAB 250Xi具備同時(shí)擁有成像和小面積XPS測試能力的*性
- 兩種類型的檢測器可以確保分析者為每種分析選用*的分析器——二維檢測器用于成像，當(dāng)檢測到高計(jì)數(shù)率時(shí)能譜分析使用基于通道電子倍增器的檢測器
- 配備兩組電腦控制虹膜機(jī)制透鏡——一組用于用戶控制分析區(qū)域，小面積測試模式下可下降到小于20微米，另一組透鏡用于控制接收角，對于高質(zhì)量角分辨XPS至關(guān)重要
- 180°半球能量分析器
- 數(shù)字化控制的EX06離子槍可用于提供優(yōu)異的深度剖析測試
- 即便使用低能離子，EX06離子槍同樣是一款高性能的離子源
- 可用于深度剖析中樣品原點(diǎn)多方位旋轉(zhuǎn)刻蝕
- 多技術(shù)能力
- 設(shè)計(jì)用于其它分析技術(shù)，不局限于XPS測試
- 透鏡組和能量分析器供電是可逆的——使用EX06離子槍，ISS（離子散射能譜）始終可用
- 電子槍加壓可升至1000V，為REELS提供優(yōu)異的離子源
技術(shù)選項(xiàng)
- 帶非單色化X射線光源XPS
- AES（俄歇電子能譜）
- UPS（紫外電子能譜）
- 分析室使用5毫米厚鉬合金材料制造，zui大限度地提高磁屏蔽效率
- 與使用內(nèi)部或外部屏蔽的屏蔽法相比，提供的屏蔽效能更佳
- 系統(tǒng)基本配置包含一體化的進(jìn)樣室和進(jìn)樣門鎖機(jī)構(gòu)
- 額外的制備室可做為選配件
- 賽默飛世爾科技的表面分析儀器和部件由Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)控制
- 這個(gè)業(yè)界的軟件集成了測試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成
- Avantage是基于Windows的軟件包，可以通過網(wǎng)絡(luò)遠(yuǎn)程控制，輕易實(shí)現(xiàn)與第三方軟件如微軟Word軟件兼容
- Avantage負(fù)責(zé)從樣品分析到報(bào)告生成整個(gè)測試分析過程
