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廣電計量檢測集團股份有限公司

半導體刻蝕沉積流體控溫設備

參考價99111.00
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱江蘇康士捷機械設備有限公司
  • 品       牌康士捷
  • 型       號
  • 所  在  地蘇州市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2025/3/24 15:21:37
  • 訪問次數(shù)103
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KZ-30WH99111.00元100 臺可售
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   加熱制冷一體機組,高低溫一體機組,低溫制冷循環(huán)器,冷熱兩用冷水機組,冰水機,螺桿式冷水機,乙二醇冷水機,鹽水冷凍機,復疊制冷機組,超低溫深冷冷凍機組,防爆冷水機,加熱制冷一體機組,冷凍機組,制冷機組-江蘇康士捷機械設備有限公司專業(yè)生產(chǎn),可根據(jù)用戶工藝要求定做


康士捷生產(chǎn)的工業(yè)控溫設備有高溫型(5℃~35℃)、中溫型(-5℃~-40℃)、低溫型(-40℃~-80℃)、超低溫型(-120℃~-80℃)、冷熱兩用型(-120℃~+300℃)五個系列。制冷量大小都有,有防爆型,防腐型,撬裝式,變頻型等。接受非標定做。

高低溫一體機組,加熱制冷循環(huán)器,冷熱兩用冷水機組等適用于半導體制造裝置及醫(yī)療元件、蝕刻裝置、涂布機、顯影機、試驗機、清洗機、器件測試、高低溫循環(huán)試驗、涂料溫控、真空泵的冷卻腔室電極溫控、試劑冷卻裝置熱縮膜包裝機等及高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制等溫控控制中。



冷水機在各行各業(yè)使用廣泛,提高生產(chǎn)效益,提升產(chǎn)品質(zhì)量有顯著作用,應用行業(yè)有:制藥,石油,生化,生物,汽車,新能源,激光技術(shù),焊接,塑料成型,注塑,擠塑,吹瓶,熱力塑型,真空鍍膜,鍍膜玻璃生產(chǎn),鋼化玻璃,鋁合金,壓鑄,鋁型材,食品加工業(yè),制藥業(yè),造紙,化工,電子蕊片制造,電路板生產(chǎn),電子行業(yè),醫(yī)療設備,電鍍,電泳,表面外理,鑄造,機械切削加工,超聲波清洗衣,皮革,皮草加工,油墨生產(chǎn),養(yǎng)殖業(yè)等。各行業(yè)的特殊性對冷水機要求不同,因此設計了行業(yè)專業(yè)冷水機,例如:激光冷水機,電鍍冷水機,防腐蝕冷水機,注塑冷水機,真空鍍膜冷水機,反應釜低溫冷水機,實驗用冷水機,風冷式冷水機,水冷式冷水機,焊接冷水機、擠塑冷水機、熱力塑形冷水機、拉線冷水機、切削冷水機、研磨冷水機、鑄造冷水機、表面處理冷水機、真空冷水機、化工冷水機、氧化冷水機、制藥冷水機、養(yǎng)殖冷水機、皮革冷水機、食品冷水機、印刷冷水機、制漆冷水機等。




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標準制冷量 根據(jù)貴司工藝需求 加工定制
結(jié)構(gòu)類型 活塞式 輸入功率 根據(jù)機組大小kw
外形尺寸 根據(jù)機組大小 應用領(lǐng)域 半導體等行業(yè)
重量 根據(jù)機組大小kg
半導體刻蝕沉積流體控溫設備在半導體制造中,晶圓加工涉及刻蝕、沉積等關(guān)鍵工藝,這些工藝對溫度控制要求較高,流體控溫設備因此成為重要的部分。
半導體刻蝕沉積流體控溫設備 產(chǎn)品信息


半導體刻蝕沉積流體控溫設備選型,價格,方案等與江蘇康士捷機械設備有限公司溝通,多案例供參考。


康士捷生產(chǎn)的工業(yè)控溫設備有高溫型(5℃~35℃)、中溫型(-5℃~-40℃)、低溫型(-40℃~-80℃)、超低溫型(-150℃~-80℃)、冷熱兩用型(-150℃~+300℃)等系列產(chǎn)品供貴司選用。制冷量大小都有,有防爆型,防腐型,撬裝式,變頻型等。接受非標定做。溫度穩(wěn)定性±0.1℃等可選。


以下列出部分參數(shù),貴司參數(shù)溝通選型后確認。

半導體刻蝕沉積流體控溫設備

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半導體刻蝕沉積流體控溫設備

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在半導體制造中,晶圓加工涉及刻蝕、沉積等關(guān)鍵工藝,這些工藝對溫度控制要求較高,流體控溫設備因此成為重要的部分。以下是其主要應用和特點:

1. 刻蝕工藝

溫度控制需求:刻蝕過程中,反應氣體和晶圓表面需保持穩(wěn)定溫度,以確??涛g速率和均勻性。

流體控溫設備作用:通過循環(huán)冷卻液或加熱液,精確控制反應腔室和晶圓溫度,確保工藝一致性。

2. 沉積工藝

溫度控制需求:化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)等工藝要求基板溫度高度穩(wěn)定,以影響薄膜質(zhì)量和均勻性。

流體控溫設備作用:通過調(diào)節(jié)基板溫度,確保沉積速率和薄膜性能符合要求。

3. 流體控溫設備的關(guān)鍵技術(shù)

高精度溫度控制:采用PID控制算法和精密傳感器,確保溫度波動在±0.1°C以內(nèi)。

快速響應:設備需迅速調(diào)整溫度,適應工藝變化。

均勻性:確保晶圓表面溫度分布均勻,避免局部過熱或過冷。

耐腐蝕性:流體系統(tǒng)需使用耐腐蝕材料,以應對化學品的侵蝕。

4. 常見流體控溫設備

冷卻水機:用于帶走反應腔室的熱量。

加熱循環(huán)器:提供加熱和冷卻功能,適用于多種工藝。

熱交換器:用于高效熱量傳遞,確保溫度穩(wěn)定。

5. 應用案例

刻蝕設備:在等離子刻蝕中,流體控溫設備用于控制電極和腔室溫度。

CVD設備:在薄膜沉積中,控溫設備確?;鍦囟染鶆颍嵘∧べ|(zhì)量。

6. 未來發(fā)展趨勢

更高精度:隨著工藝節(jié)點縮小,溫度控制精度要求將進一步提高。

智能化:結(jié)合AI和物聯(lián)網(wǎng),實現(xiàn)實時監(jiān)控和自動調(diào)節(jié)。

節(jié)能環(huán)保:開發(fā)更高效的流體控溫系統(tǒng),減少能耗和環(huán)境影響。

流體控溫設備在半導體制造中至關(guān)重要,直接影響刻蝕和沉積等工藝的質(zhì)量和效率。隨著技術(shù)進步,這些設備將更加精密和智能化,滿足未來半導體制造的需求。


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