等離子體發(fā)射測(cè)量
在紫外線...近紅外線范圍可同時(shí)觀察到等離子發(fā)射
低壓等離子沉積技術(shù)是一個(gè)客觀的連續(xù)不斷的過程,如PVD(物理氣象沉積)是今天真正的問題之一。除了等離子體發(fā)射光的表觀檢查,有時(shí)也使用質(zhì)譜技術(shù)。但是質(zhì)譜技術(shù)既不方便操作,其結(jié)果也不容易理解。與此相比,使用OES(發(fā)射光譜)和光纖耦合TranSpec光譜儀的有點(diǎn)是顯而易見的。
技術(shù)特征
在200...1000nm光譜范圍內(nèi)可同時(shí)測(cè)量
可檢測(cè)非常底的發(fā)射信號(hào)
可連接到幾乎每個(gè)真空室
無需維護(hù)
舒適和易于使用的PEM-ProVis專業(yè)版軟件