一、產(chǎn)品特點：
4、濺射到樣品表面能量低，對樣品損傷??；（適用溫度敏感性高的樣品）
5、可以濺射各種固體靶材（如各種金屬、陶瓷、碳等）；
6、控制精度高，實驗結(jié)果精準可控重復性高；
7、在同一真空腔內(nèi)，可實現(xiàn)清洗和鍍膜，降低污染樣品造成的數(shù)據(jù)偏差；
8、加入特殊氣體，可進行反應離子束刻蝕；
9、可實現(xiàn)的功能有：等離子清洗、鍍膜等；
10、數(shù)字化自動控制系統(tǒng)。
2、*高壓：（1）200~6000V；
3、樣品臺可旋轉(zhuǎn)；
4、具有自保護功能；
1、面積大：0~?25毫米、0~?50毫米；
2、濺射樣品表面膜層更均勻；
3、顆粒度更?。?nm左右）；4、濺射到樣品表面能量低，對樣品損傷??；（適用溫度敏感性高的樣品）
5、可以濺射各種固體靶材（如各種金屬、陶瓷、碳等）；
6、控制精度高，實驗結(jié)果精準可控重復性高；
7、在同一真空腔內(nèi)，可實現(xiàn)清洗和鍍膜，降低污染樣品造成的數(shù)據(jù)偏差；
8、加入特殊氣體，可進行反應離子束刻蝕；
9、可實現(xiàn)的功能有：等離子清洗、鍍膜等；
10、數(shù)字化自動控制系統(tǒng)。
二、技術(shù)參數(shù)：
1、真空度：極限真空度5*10-3Pa（不通氬氣）；
2、*高壓：（1）200~6000V；
3、樣品臺可旋轉(zhuǎn)；
4、具有自保護功能；
5、單離子槍；
6、樣品冷卻：半導體冷卻（ 選配件）；
7、支持手套箱。
