芯片失效分析檢測是一項關鍵的技術活動，旨在確定芯片在使用過程中出現故障的原因。以下是詳細介紹：
一、定義與目的
芯片失效分析檢測是判斷芯片失效性質、分析失效原因、研究預防措施的技術工作。其目的在于提高芯片品質，改善生產方案，從而保障產品品質。
二、檢測對象與來源
芯片失效分析檢測的樣品通常是已經出現故障或疑似故障的芯片。這些芯片可能來自各種電子設備，如計算機、手機、平板電腦等。
三、檢測流程與方法
芯片失效分析檢測通常遵循以下流程，并采用多種方法進行檢測：
1. 外觀檢查：
使用肉眼或光學顯微鏡觀察芯片的外觀，檢查是否有物理損壞、腐蝕、氧化、劃痕、裂紋、焊點問題等。
2. 電路連通性測試：
使用多米尼克等測試工具，檢查芯片引腳之間的連通性，以確認是否存在開路或短路問題。
3. X射線檢測：
通過使用X射線檢測設備，可以透視芯片內部，觀察其封裝情況，檢測是否存在隱蔽的焊接缺陷、金屬短路、分層剝離、爆裂以及鍵合線錯位斷裂等問題。
4. 熱分析：
使用熱成像儀等工具，檢測芯片在工作過程中的溫度分布，以確定是否存在熱失效問題，如燒結不良、過熱等。
5. 功能測試：
使用測試儀器對芯片進行功能測試，如邏輯功能測試、時序功能測試、模擬功能測試等，以確定芯片是否存在功能故障。
6. 物理分析：
使用掃描電子顯微鏡、X射線衍射儀等儀器對芯片進行物理分析，觀察芯片的微觀結構和表面形貌，確定是否存在物理損壞、腐蝕、氧化等情況。
7. 電學分析：
使用示波器、邏輯分析儀、信號源等儀器對芯片進行電學性能測試，如電阻、電容、電感、電壓、電流等，以確定芯片是否存在電學故障。
8. 化學分析：
通過在芯片表面進行化學處理，例如腐蝕或電鍍等，可以顯示芯片內部結構和元素組成，從而分析芯片失效的化學原因。
9. 聲學掃描：
利用超聲波反射與傳輸的特性，判斷器件內部材料的晶格結構，有無雜質顆粒以及發(fā)現器件中空洞、裂紋等異常情況。
10. 芯片開封：
作為一種有損的檢測方式，芯片開封可以剝除外部IC封膠，觀察芯片內部結構。主要方法有機械開封與化學開封。需特別注意保持芯片功能的完整。開封后的芯片可使用掃描電子顯微鏡觀察其內部形貌、晶體缺陷、飛線分布情況等。
四、檢測儀器與設備
芯片失效分析檢測中常用的儀器與設備包括光學顯微鏡、掃描電子顯微鏡、X射線衍射儀、示波器、邏輯分析儀、信號源、熱成像儀、X射線檢測設備、超聲波掃描設備、芯片開封設備等。
五、檢測結果與報告
完成檢測后，需要對收集的數據進行分析，識別失效模式和根本原因。然后撰寫失效分析報告，詳細記錄分析過程、發(fā)現的缺陷、根本原因及改進建議。
六、改進措施與實施
根據分析結果，提出改進措施，優(yōu)化設計、工藝或材料，以防止類似失效再次發(fā)生。實施改進措施后，進行驗證測試，確認改進的有效性。
總之，芯片失效分析檢測是一項復雜而關鍵的技術活動。通過綜合運用多種技術手段和儀器設備，可以準確識別芯片中的故障并找出導致故障的原因。這有助于提高芯片的可靠性和性能，減少后續(xù)的失效風險，并為后續(xù)產品改進和研發(fā)工作提供重要參考。
