EPMA-8050G電子探針顯微分析儀
“The Grand EPMA” 誕生 搭載zui*場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng) 從SEM觀察條件到1μA量級,在各種束流條件下都擁有空間分辨率的*場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀,將分析性能發(fā)揮至*。 當(dāng)之無愧的“The Grand EPMA” ,zui高水準(zhǔn)的EPMA誕生! |
超高分辨率面分析 對碳膜上Sn球放大3萬倍進行面分析。即使是SE圖像(左側(cè))上直徑只有50nm左右的Sn顆粒,在X射線圖像(右側(cè))上也是清晰可見。 | |
zui*技術(shù)實現(xiàn) ■ 的空間分辨率 | ■ 大束流超高靈敏度分析 |
超高靈敏度面分析 使用1μA束流對不銹鋼進行5000倍的面分析。精確地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相(左側(cè)),同時也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前(右側(cè))。 | |
實現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的*技術(shù)
1 高亮度肖特基發(fā)射體 2 EPMA電子光學(xué)系統(tǒng) 3 超高真空排氣系統(tǒng) 4 高靈敏度X射線譜儀 |