HITACHI SU-8010高分辨場發(fā)射掃描電鏡包括SU-8010主機(jī)和E-1045噴鉑噴碳裝置，并配備有EDAX X射線能譜儀。加速電壓為15kV時(shí)，分辨率為1.0nm，加速電壓為1kV時(shí)，分辨率為1.3nm。
日立2005年在中國推出了S-4800型高分辨場發(fā)射掃描電鏡，由于出色的應(yīng)用性能、良好的穩(wěn)定性和簡易的維護(hù)，收到了各界用戶的*。
日立2011年新推出了它的后續(xù)機(jī)型----SU8010，它繼承了S-4800的優(yōu)點(diǎn)，性能有進(jìn)一步提高，1kv使用減速功能后，分辨率提升到1.3nm，相對(duì)于S-4800可以在更低的加速電壓下呈高分辨像，明顯提升了以往很難觀測的低原子序數(shù)樣品的觀測效果。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1. 低加速電壓成像能力，1kv分辨率可達(dá)1.3nm
2. 日立專li的ExB設(shè)計(jì)，不需噴鍍，可以直接觀測不導(dǎo)電樣品
3. Upper探頭可選擇接受二次電子像或背散射電子像
4. 可以根據(jù)樣品類型和觀測要求選擇打開或關(guān)閉減速功能
5. 標(biāo)配有冷指、電子槍內(nèi)置加熱器，物鏡光闌具有自清潔功能
6. 儀器的烘烤維護(hù)及烘烤后的透鏡機(jī)械對(duì)中均可由用戶自行完成
主要用途：
掃描電鏡（SEM）可觀察納米材料、材料斷口的分析、觀察原始表面、觀察區(qū)域細(xì)節(jié)、顯微結(jié)構(gòu)分析等。
X射線能譜儀可進(jìn)行成分的常規(guī)微區(qū)分析：元素定量、定性成分分析，實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量。分析范圍Be4~U92。
已廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、金屬材料、陶瓷材料半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料、醫(yī)藥科學(xué)以及生物等領(lǐng)域。
二次電子分辨率 | 1.0nm（加速電壓15kV、WD＝4mm） | |
| 1.3nm（加速電壓1kV、WD＝1.5mm） | ||
| 加速電壓 | 0.1～30kV | |
| 觀測倍率 | 20～8000,000（底片輸出） | |
| 60～2,000,000（顯示器輸出） | ||
| 樣品臺(tái) | ||
| 馬達(dá)驅(qū)動(dòng) | 3軸馬達(dá) | |
| 5軸（選配） | ||
| 行程 | X | 0～50mm |
| Y | 0～50mm | |
| Z | 360° | |
| T | -5～70° | |
| R | 1.5～30mm | |
| zui大裝載尺寸 | 100mm（zui大） | |
| 150mm（選配） | ||
| 探頭 | ||
| 標(biāo)配 | Lower | 高立體感圖像 |
| Upper | 高分辨SE、BSE圖像 | |
| 選配 | STEM | 明場像、暗場像 |
| YAG 探頭 | BSE圖像 | |
| 半導(dǎo)體探頭 | BSE圖像 | |
| EBIC | 電子束感生電流圖像 | |
| EDS | 元素分析 | |
| 反污染措施 | ||
| 冷指 | 標(biāo)配 | |
| 物鏡光闌 | 內(nèi)置自清潔功能 | |
| 電子槍 | 內(nèi)置加熱器 | |
| 真空系統(tǒng) | ||
| 離子泵 | 3臺(tái) | |
| 分子泵 | 1臺(tái) | |
| 機(jī)械泵 | 1臺(tái) | |
