TG-142 和 MPPG 8.b 中推薦的每個基于圖像的測試的單一供應(yīng)商解決方案。使用 EPID 和 RITG142 軟件，自信而輕松地對直線加速器進(jìn)行全面的質(zhì)量保證。
RITG142質(zhì)控軟件，TG142分析軟件是機(jī)器 QA、MLC QA、成像 QA 以及數(shù)據(jù)跟蹤和趨勢分析的一體化解決方案，您需要符合 TG-142 和醫(yī)學(xué)物理學(xué)實用指南 （MPPG） 8.b 的全面 LINAC QA。此外，成像 QA 模型通過易于使用的跟蹤和趨勢分析功能自動評分。
機(jī)器質(zhì)量保證
LINAC 的每日、每月和年度機(jī)器 QA增強(qiáng)型 3D Winston-Lutz（等中心優(yōu)化）和 Virtual Star Shot*自動處理一組 EPID Winston-Lutz 圖像，以快速準(zhǔn)確地測量等中心位置。RIT 版本的此測試允許您使用 3 到 16 張圖像，并為球設(shè)置和圍繞等中心擺動提供誤差估計。增加的角度靈活性使您能夠模擬更多臨床相關(guān)的角度，以確定特定治療配置下的等中心。*美國9192784、JP Patent 6009705、CA Patent 2918045和其他正在申請的國際。立體定向?qū)?zhǔn) （2D Winston-Lutz） 測試立體定向錐形輪廓字段對齊
光束測量輻射/光場重合EPID圖像可以在沒有校準(zhǔn)文件的情況下進(jìn)行分析，并具有自定義的視場大小。中心位置可以通過采取BB、針刺或使用 L-Rad Phantom。 全自動星形分析非對稱場/匹配線深度劑量、交叉和正交剖面電子能 （TG-25）圖像直方圖等劑量輪廓3D 劑量曲線快速平整度和對稱性水箱梁測量分析導(dǎo)入斷層放療®校準(zhǔn)文件斷層放療®是 Accuray， Inc. 的注冊商標(biāo)
MLC質(zhì)量保證
Varian LINACEPID糾察柵欄測試此例程可自動執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測試。自動化瓦里安 RapidArc®測試可以在距離 EPID、膠片或 CR 圖像的任何距離處拍攝圖像。這包括：測試 0.1、0.2、1.1、1.2、2 和 3。 RIT 的 RapidArc QA 例程支持 Millennium 120、HD120 MLC 和 Halcyon®MLC 模型。瓦里安葉速試驗在不使用日志文件的情況下，該測試可測量瓦里安 MLC 葉片速度在成像儀上移動時的一致性和準(zhǔn)確性。瓦里安·哈爾西恩®MLC分析執(zhí)行糾察圍欄或全面的 RapidArc®Halcyon的分析®MLC
Elekta LINAC
漢考克對醫(yī)科達(dá)機(jī)器的測試漢考克測試（2 圖像測試、4 圖像測試和帶備用鉗口測試）使用 Elekta iView™ 成像儀自動測量葉片位置與等中心位置以及顎葉片后退測量值。EPID糾察柵欄測試此例程可自動執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測試。醫(yī)科達(dá)葉速測試此測試對齊兩張圖像，以分析 Elekta iView™ 和 Agility™ 的葉速一致性。
其他 MLC 測試Bayouth MLC分析分析需要在銀行之間留葉間隙的 MLC。其他 MLC 測試其中包括：TG-50 糾察柵欄測試、MSK 葉片測試、瓦里安 DMLC 測試模式和 MLC 傳輸分析。
成像 QA
EPID QC模塊RIT長子（EPID QA Phantom - 由 Standard Imaging 制造和銷售。 這些測試包括：5 個區(qū)域的穩(wěn)定性、分辨率 （MTF）、幾何失真、均勻性、對比度和噪點。PTW電子元拉斯維加斯EPID標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-3
卡坦®、kV 和錐形梁模塊瓦里安 504 CATPHAN瓦里安 604 CATPHAN醫(yī)科達(dá) 503 CATPHAN西門子圖像質(zhì)量 Phantom
DR/CR kV模塊IBA Primus（IBA普里姆斯酒店）®LPTW 諾米®4（20x20厘米和30x30厘米）利茲 TOR-18 FG標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-kV1
kV/MV模塊標(biāo)準(zhǔn)成像 ISOCube五角星指南
基本模塊DICOM圖像查看器DICOM 標(biāo)簽查看器圖像導(dǎo)入：DICOM 目錄瀏覽器、打開目錄瀏覽器、DICOM 文件過濾器手動測量：距離、角度、輪廓、直方圖、圓形和方形 ROI 以及輪廓的 ASCII 輸出輸出格式：打印、PDF 導(dǎo)出、帶有自定義模板的 Excel 導(dǎo)出監(jiān)控圖像質(zhì)量圖像傳輸
自定義公差管理使用公差管理器為所有自動模型分析中使用的每個測量設(shè)置公差值和通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)。該工具提供了在各種 LINAC 和成像系統(tǒng)上自定義公差所需的靈活性：在易于使用的面板中方便地設(shè)置和切換公差，該面板位于主界面中，并顯示在每個模型分析例程中。為分析及其相應(yīng)報告設(shè)置自己的通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)，允許在所有成像 QA 分析中進(jìn)行定制。偏好配置文件和公差是根據(jù)每臺機(jī)器設(shè)置的。它們可以針對使用中的每臺機(jī)器進(jìn)行精確定制。將所有通過/失敗容差數(shù)據(jù)傳輸?shù)絉IT趨勢數(shù)據(jù)庫，以進(jìn)行統(tǒng)計跟蹤和趨勢™分析 其他測量
用于 QA 的電影劑量測定
放射致變色和放射致變色膠片，配備Vidar和平板掃描儀
平板非均勻性校正
放射致變色膠片均勻性校正
用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)
通用映像文件導(dǎo)入
Vidar 掃描儀接口（Vidar 掃描儀控制中心）
校準(zhǔn)
MLC標(biāo)定技術(shù)
：EP 1318857、CA 2418232、JP 3817176、US 6675116、US 6934653 和 US 7013228。用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)
垂直劑量校準(zhǔn)
校準(zhǔn)文件合并
EPID 質(zhì)量保證
導(dǎo)入用于 QA 的 EPID 映像
縮放瓦里安 EPID 的 DICOM 圖像
一般特征
圖像合成器
DICOM 匿名器
針刺、擦除和 ROI 工具
每個分析程序的 PDF 報告
基于云的軟件許可
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