電子超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

   電子超純水處理設(shè)備，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用超純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍；含有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等，就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力，并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水，每生產(chǎn)一個(gè)顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導(dǎo)致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求。

一、產(chǎn)品總述：

EDI超純水設(shè)備是用于工業(yè)生產(chǎn)用水水的純水制取裝置，根據(jù)客戶(hù)的需求采用的不同的工藝流程來(lái)制取符合客戶(hù)生產(chǎn)用純水的標(biāo)準(zhǔn)。系統(tǒng)采用RO+EDI純化水工藝，產(chǎn)水水質(zhì)滿(mǎn)足客戶(hù)的生產(chǎn)用水要求，符合藥典、GMP、FDA要求。系統(tǒng)整體人性化設(shè)計(jì)，模塊化安裝，占地面積小，操作簡(jiǎn)單方便，運(yùn)行穩(wěn)定，節(jié)能。

相關(guān)參數(shù)：

進(jìn)水源：反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-10μ?S/cm
PH值： 6.5-9.0
溫度： 5℃--38℃
硬度： ≤0.5ppm(以?CaCO3?計(jì))
顆粒： ≤1μ?m
有機(jī)物： TOC?小于?0.5ppm（建議檢測(cè)不出）
氧化物： ≤0.02ppm
硅： ≤0.02ppm
重金屬離子： ≤0.1ppm
進(jìn)水壓力： 0.2—0.4MPa
產(chǎn)水壓力： 產(chǎn)水壓力比濃水壓力高0.05-0.1Mpa，膜堆壓差取決于流量與溫度

我司安排現(xiàn)場(chǎng)安裝、調(diào)試、培訓(xùn)以及定期保養(yǎng)。更多產(chǎn)品型號(hào)及價(jià)格請(qǐng)致電咨詢(xún)。

二、制水工藝（演示）：

三、設(shè)備圖片預(yù)覽：

四、超純水設(shè)備應(yīng)用范圍
1.化妝品行業(yè)：
護(hù)膚品生產(chǎn)用純水、洗發(fā)水生產(chǎn)用純水、染發(fā)劑生產(chǎn)用純水、牙膏生產(chǎn)用純水 、洗手液生產(chǎn)用水。

2.食品、飲料、純凈水行業(yè)：
食品生產(chǎn)用水和飲料生產(chǎn)用水以及純凈水的生產(chǎn)

3.電子工業(yè)：
鋁箔清洗；電子管?chē)娡颗湟海伙@相管玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。

4.電池行業(yè)：
蓄電池生產(chǎn)用純水、鋰電池生產(chǎn)用純水、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用純水。

5.混凝土外加劑配制用純水：
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。

6.紡織印染工業(yè)：
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。

7.超聲清洗用純水

8.涂裝行業(yè)：
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。

五、不同出水品質(zhì)的工藝和材質(zhì)選項(xiàng)

六、操作系統(tǒng)顯示界面（下為演示界面）：