品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 1萬-2萬 |
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儀器種類 | 箱式爐 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
應用領域 | 化工,電子 |
立式真空爐是一種非常重要的加熱設備,廣泛應用于各個領域。它利用高溫、低壓環(huán)境在無氧或低氣壓下對材料進行加熱、燒結(jié)、退火等處理,適用于半導體材料制造、粉末冶金、陶瓷材料制備等工藝。
相較于傳統(tǒng)的箱式爐,立式真空爐具有很多優(yōu)勢。首先,其內(nèi)部空間更大,可以容納更大的材料批量。同時,由于爐膛為豎直方向,可以實現(xiàn)流程自動化和連續(xù)生產(chǎn),提高了生產(chǎn)效率。而且,立式真空爐的控制技術也十分,可以通過PLC、人機界面等手段,實現(xiàn)參數(shù)控制、程序控制等功能。
另外,由于立式真空爐可在無氧或低氣壓環(huán)境下進行加熱,使得材料中的氧化物、氣體等會在高溫下被還原或抽出,從而能夠保證材料質(zhì)量的穩(wěn)定性。同時,減少了氣氛調(diào)節(jié)所帶來的工作量,大幅度提高了生產(chǎn)效率。因此,立式真空爐廣泛應用于粉末冶金、半導體制造等要求材料純度高的領域。
在使用中,立式真空爐操作簡便,只需設定加熱時間和溫度,即可實現(xiàn)自動化生產(chǎn)。當然,這種設備也需要日常維護保養(yǎng),例如每次燒結(jié)前都應清理干凈爐膛內(nèi)的殘留物,并注意定期更換耗損件。
總之,立式真空爐是一種非常重要的工業(yè)加熱裝置,其*的技術特點能夠滿足很多材料處理的需求。它的控制技術和處理效果已成為許多企業(yè)生產(chǎn)電器。