產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工藝平臺(tái)的升級(jí)款,在對(duì)準(zhǔn)精度、處理速度上都有較大提升,適用于大型生產(chǎn)線。
主要特點(diǎn)及參數(shù):
·支持12英寸(300mm)晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理。
·全自動(dòng)頂部及底部對(duì)準(zhǔn):
頂部對(duì)準(zhǔn)精度≤±0.25μm
底部對(duì)準(zhǔn)精度≤±0.5μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可選配功能:
紅外對(duì)準(zhǔn)(透射或反射)