XTU-4C X熒光光譜儀
型號:XTU-4C
測量面積:最小0.002mm2
鍍層分析:23層鍍層24種元素
儀器特點:可手動變焦
儀器優(yōu)勢:同元素不同層分析
儀器簡介:
XTU-4C是一款設(shè)計結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度的鍍層測厚儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計,不但可以測量各種微小樣品,即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測量,是一款測量涂鍍層成分及厚度性價比高、適用性強的機型。
該系列儀器使用于平面、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內(nèi)的樣品涂鍍層檢測。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢:
技術(shù)參數(shù):
1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)
2. 涂鍍層分析范圍:氯(Cl)/鋰(Li)- 鈾(U)
3. 厚度檢出限:0.005μm
4. 成分檢出限:1ppm
5. 最小測量直徑0.2mm(最小測量面積0.03mm2)
6. 對焦距離:0-30mm
7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm
8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm
9. 儀器重量:45KG
10. XY軸工作臺移動范圍:50mm*50mm
11. XY軸工作臺承重:5KG
應(yīng)用領(lǐng)域:
多元迭代EFP核心算法
專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準測量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。
配置清單: