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感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(ICP)

參考價10-280/臺
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱北京中科復(fù)華科技有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號DISC-ICP-6
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2024/4/9 9:53:25
  • 訪問次數(shù)313
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北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器,擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。未來公司將不斷和引進在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品,同時也與全國各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。

電子束曝光系統(tǒng),刻蝕設(shè)備,鍍膜設(shè)備,光刻機
產(chǎn)地 國產(chǎn)
感應(yīng)耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)利用射頻天線,通過感應(yīng)耦合方式在放電腔中產(chǎn)生高密度等離子體,同時刻蝕工作臺引入射頻偏壓,射頻偏壓作用下,等離子體中垂直向下對被刻蝕材料表面進行物理轟擊,并與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),達到對樣品進行刻蝕的目的。

  本系統(tǒng)具有ICP和RIE兩種刻蝕功能,既可以進行細線條(納米)加工,也可以進行高深寬比的體加工??煽涛g的材料主要有SiO2、Si3N4、多晶硅、硅、SiC、GaN、
感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(ICP) 產(chǎn)品信息

應(yīng)用方向:科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢:耐氯基強腐蝕氣體,帶雙片送取樣室(Load-Lock)

產(chǎn)品配置:

樣片數(shù)量及尺寸:1片Ф6英寸

刻蝕材料:包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

刻蝕腔體:高真空系統(tǒng)

Load-Lock:低真空系統(tǒng) 或 高真空系統(tǒng)。雙片裝,樣品自動運送。

刻蝕不均勻性:±3%-±6%

刻蝕速率:0.1-4μm/min(視具體材料與工藝)

工作臺:可升降,包含水冷

電源配置:上電射頻,下電偏壓,包含自動匹配

氣路數(shù)量與種類:6路氣路,其中2路耐腐蝕VCR焊接 或 用戶選配

深硅刻蝕系統(tǒng):可選配

He冷背吹系統(tǒng):可選配

終點檢測控制:可選配質(zhì)譜儀

操作模式:全自動+半自動控制


關(guān)鍵詞:質(zhì)譜儀 工作臺
15700106413
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