1 概述：
CEW-4000型半軸專用交直流熒光磁粉探傷機(jī)系機(jī)電組合型半自動(dòng)磁粉探傷設(shè)備，由電源控制系統(tǒng)、夾持磁化裝置、磁懸液系統(tǒng)等幾大部分組成，適用于以濕式磁粉法檢測(cè)由鐵磁性材料制成的軸、管、棒類零件的表面及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細(xì)微缺陷。
本設(shè)備采用手動(dòng)、自動(dòng)兩種運(yùn)行方式，由可編程控制器（OMRON PLC）集中控制。手動(dòng)時(shí)，可進(jìn)行每個(gè)功能的單步獨(dú)立操作；自動(dòng)時(shí)，設(shè)備自動(dòng)執(zhí)行PLC內(nèi)部程序，工件上料到位夾緊后，按啟動(dòng)按鈕，可實(shí)現(xiàn)工件的噴淋—轉(zhuǎn)動(dòng)—充磁等一系列動(dòng)作。手動(dòng)退磁后松開工件。周向磁化采用直接通電，縱向磁化采用兩組異形結(jié)構(gòu)的線圈，具有良好的磁化效果。復(fù)合磁化在工件上形成旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)，一次性顯示磁跡，具有較高的工作效率。
2 主要技術(shù)參數(shù)：
2.1、磁化方式：周向、縱向、復(fù)合三種磁化方式；
2.2、周向磁化電流：AC 0-4000A有效值，連續(xù)可調(diào)；
2.3、縱向磁化磁勢(shì)：AC 0-18000AT有效值，連續(xù)可調(diào)，
DC 0-18000AT平均值（半波兩倍于平均值），連續(xù)可調(diào)；
2.4、周向退磁電流：AC 4000-0A有效值，連續(xù)可調(diào)；
2.5、縱向交流退磁磁勢(shì)：AC 18000-0AT有效值，連續(xù)可調(diào)；
2.6、交流磁化后退磁效果：≤0.3mT；
2.7、電極間距：0-1250mm（電動(dòng)可調(diào)）；
2.8、暫載率：≥25%；
2.9、夾持方式：氣動(dòng)夾緊；
2.10、運(yùn)行方式：手動(dòng)/自動(dòng)；
2.11、探傷靈敏度：15/50A1型試片清晰顯示；
2.12、探傷節(jié)拍：約15秒/件(上下料及觀察時(shí)間除外，探傷時(shí)間和工藝過程可根據(jù)需方實(shí)際需要，程序可調(diào)整)；
2.13、電源：三相四線 380V±5% 50Hz 250A；
2.14、暗房尺寸: 3400mm (L)×2100mm (W)×2250mm (H)
探傷機(jī)尺寸：2700mm (L)×1000mm (W)×1500mm (H)（含噴淋架高度），
2.15、使用環(huán)境：溫度-5℃+40℃，相對(duì)濕度≤80%，無腐蝕氣體、粉塵及中高頻干擾；
2.16、重量：約1300Kg。
