美國(guó)CIF專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)等離子表面處理機(jī)、等離子表面處理系統(tǒng)、等離子清洗機(jī)。經(jīng)過(guò)幾年的努力和不斷的引進(jìn)、尋求*進(jìn)的技術(shù)，現(xiàn)已成為大規(guī)模、*的等離子清洗機(jī)設(shè)備生產(chǎn)廠家，開(kāi)發(fā)出了多種系列等離子產(chǎn)品，等離子切割是利用極細(xì)、高溫、高速的等離子電弧的熱量來(lái)熔化進(jìn)而切割金屬器件，特點(diǎn)是切割快速，熱影響區(qū)小，切割面平滑。等離子處理技術(shù)是用于表面清洗，活化，鍵合，去膠，金屬還原，簡(jiǎn)單刻蝕，器械的消毒、去除表面有機(jī)物，疏水實(shí)驗(yàn)，鍍膜前處理等的創(chuàng)新技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)現(xiàn)代制造工藝所追求的高品質(zhì)，高可靠性，高效率，低成本和環(huán)保等目標(biāo)。

 國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)實(shí)物圖

——————————>負(fù)責(zé)人：黃女士<————————————————

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儀器介紹：

國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)中的等離子體又叫做電漿，是電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質(zhì)存在的第四態(tài)。采用空氣或者氮?dú)庾鳛榘l(fā)生氣體，氣體的需求量非常高，使用氮?dú)鈺r(shí)一般需要配備專(zhuān)門(mén)的大功率氮?dú)獍l(fā)生器，工業(yè)上常用RF射頻作為激發(fā)能源，頻率在40KHZ左右。等離子工作形態(tài)以炬式較為常見(jiàn)，條狀放電模式使得表面處理后均勻性不高。

儀器優(yōu)點(diǎn)：

1.面積寬大。國(guó)產(chǎn)等離清洗機(jī)zui大可以處理5.2L的材料，可以滿足現(xiàn)有多數(shù)工業(yè)材料的表面處理需求。

2.成本低廉。功耗低，運(yùn)行成本以氣體為主。

3.無(wú)需有害氣體吸出系統(tǒng)，長(zhǎng)時(shí)間使用并不會(huì)對(duì)操作人員造成身體損害。

4.安全易用。不會(huì)對(duì)材料表面造成損傷。

儀器應(yīng)用：

使用等離子技術(shù)，這種技術(shù)通常應(yīng)用于等離子切割機(jī)，主要是金屬的切割。均勻度高，大氣壓等離子直接作用于材料表面，可以搭配的工作氣體種類(lèi)較多，如氬、氧、氮、氫、水蒸氣、空氣、混合氣體等。主要面向待處理產(chǎn)品有不能被處理的金屬區(qū)域，因氧氣的強(qiáng)氧化作用，替換為此方案中的氮?dú)夂?，該?wèn)題可以加以控制。等離子切割是利用極細(xì)、高溫、高速的等離子電弧的熱量來(lái)熔化進(jìn)而切割金屬器件，特點(diǎn)是切割快速，熱影響區(qū)小，切割面平滑。只采用氬氣的情況，只采用氬氣也可以實(shí)現(xiàn)表面改性，但是效果相對(duì)較低。此種情況較特殊，是少數(shù)工業(yè)客戶需要有限度的同時(shí)均勻的表面改性時(shí)采用的方案。

儀器性能：

型號(hào)：CPC-A

艙體尺寸:275X110（直徑）mm;

艙體容積:2.6L;

射頻頻率:40KHz;

射頻功率:10-200W無(wú)極可調(diào);

相關(guān)型號(hào)：CPC-B、CPC-C