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可調(diào)激光源的高光譜成像系統(tǒng)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳維爾克斯光電有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2024/2/26 14:02:29
  • 訪問次數(shù)95
產(chǎn)品標簽:

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深圳維爾克斯光電有限公司是的進口光電代理商,代理的激光、光電、光機械類產(chǎn)品,應用涵蓋物理與光學、化學、材料、生命科學等領域。我們與國內(nèi)各大高校、研究所、激光設備公司和及精密儀器公司保持著緊密的聯(lián)系,提供針對不同應用的專業(yè)技術支持。 維爾克斯光電在衍射光學、微光學、太赫茲元件、、光束分析儀、太陽光模擬器、顯微鏡載物臺、紅外熱像儀、電控平移臺、紅外探測器、光學儀器等領域具有多年的產(chǎn)品和技術積累,能夠為用戶提供各種高性價比的解決方案。
可調(diào)激光源的高光譜成像系統(tǒng)
可調(diào)激光源的高光譜成像系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

LIMA激光波長可調(diào)的高光譜顯微鏡400-2500nm,光學分辨率<5nm



加拿大Photon ect.LIMA可調(diào)高光譜成像系統(tǒng)規(guī)格:

光學規(guī)格

LIMA

光學規(guī)格

VIS400-1000nm

SWIR900-1620nm

e-SWIR1000-2500nm

光學分辨率(FWHM

1.5-2.5nm

3.0-5.0

<5.0nm

光譜通道

帶外抑制:<-60dB@±40nm

帶外抑制:<-60dB@±80nm

空間分辨率

亞微米(受到光譜顯微鏡NA的限制)

相機

sCMOS
(optionallyCCD,EMCCD)

InGaAscamera

(ZephIR1.7orAlizé™1.7)

HgCdTecamera
(ZephIR
2.5)

激發(fā)波長(高達3個)

連續(xù)可調(diào)

顯微鏡特點

科研級別的產(chǎn)品,可正放或倒放

波長分辨率精度

FWHM/8<0.7nm

掃描速度

20-50ms穩(wěn)定時間(步距0.01-10nm)

XY方向的行程

76mm×52mm(搭配手動臺)

Z軸分辨率

100nm

白光照明

透射、反射,汞、鹵素

照明選項

高效率均勻光照明;
Dia
透射或Epi反射照明;明場或暗場(油性或干性)

數(shù)據(jù)處理

空間濾波,數(shù)據(jù)統(tǒng)計,光譜提取,數(shù)據(jù)歸一化,光譜標定,光譜疊加,中心位置圖

軟件配置

電腦(Windows10-64bits,PHySpec™控制分析軟件(含電腦)

重量

80kg(總重量220磅,凈重180)

尺寸

顯微鏡:31×85×82cm
超連續(xù)激光器:到44×25.1×40cm
可調(diào)濾波器:到30×23×17.5cm
組合:<105cm×85cm×82cm


加拿大Photon ect.LIMA可調(diào)高光譜成像系統(tǒng)附件及可選項:

20×,40×,50×,60×,100×(5×,10×規(guī)格可定制)

機械電動臺

120×75×0.15mm,分辨率22nm

濾光輪

6個帶通濾波器

第二相機的接口;
高分辨率模組:VIS<0.5nm,SWIR<1.0nm;
檢測中的高光譜濾波器(2D光譜顯微成像);
偏振控制偏振起和分析儀

光學臺建議搭配氣升式防震臺:900mm×1800mm×60mm36”×72”×2.4”)或900mm×900mm×60mm36”×36”×2.4”)光學臺緊挨著標準的900mm×900mm×60mm36”×36”×2.4”)光學臺


Photon等為高光譜暗場成像提供了兩種方式:可調(diào)諧激光源(TLS)允許在激發(fā)中過濾,而IMA是提供發(fā)射過濾的平臺。TLS由兩個模塊組成:超連續(xù)譜激光器和基于Photon的體積布拉格光柵(VBG)技術的激光線可調(diào)濾波器(LLTF帶通濾波器)。IMA由高光譜成像濾波器、高光譜模塊濾波器組成,也基于VBG技術。當與配備暗場聚光鏡的科研級顯微鏡結(jié)合使用時,TLS和高光譜模塊濾波器可以將該顯微鏡轉(zhuǎn)變?yōu)楦吖庾V暗場設置。這些系統(tǒng)可在VIS(400-1000nm)、NIR(900-1620nm)或兩者(400-1620nm)光譜范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)。這種的平臺允許對納米材料進行深入表征,而無需任何特殊的樣品制備。

波長可調(diào)的高光譜顯微鏡是一種高光譜成像系統(tǒng),也叫作可調(diào)高光譜成像系統(tǒng)、可調(diào)激光源的高光譜成像系統(tǒng)、激光波長可調(diào)的高光譜顯微鏡。

TLS法得到的結(jié)果:下圖為使用高光譜暗場成像研究的靶向CD44+人乳腺癌細胞的金納米粒子(AuNP)顯示的3D圖像,此類空間和光譜信息對于改進復雜生物環(huán)境中基于納米等離子體的成像、疾病檢測和治療至關重要。該設置已成功用于在固定細胞制劑中對CD44靶向AuNP進行3D光譜定位和光譜鑒定。


上面a圖代表100×物鏡的焦平面在玻璃基板表面上時的暗場圖像,b圖代表100×物鏡的焦平面在人類乳腺癌細胞的頂面或細胞內(nèi)部時的暗場圖像。


上圖表示使用Photon等公司的高光譜暗場成像儀研究以3nm的步長從432nm849nm改變激發(fā)波長,100nm金納米粒子的散射數(shù)據(jù)。圖a和圖b顯示了從數(shù)據(jù)中提取的高光譜結(jié)果,它對應圖c(典型的散射光譜)。波長的變化可以幫助識別粒子的大小,空間信息可以幫助評估它們的分布。


IMA法:使用60X物鏡,150x112μm2的區(qū)域在400nm650nm范圍內(nèi)成像,步長為2nm,曝光時間為2秒。每個波長。在幾分鐘內(nèi),獲得了超過一百萬張光譜,每張光譜都覆蓋了整個可見光范圍。



上圖中,圖aAuNps60nm大?。擞浀娜巳橄侔┘毎陌祱鰣D像,圖b中綠色代表550nmAuNP金納米粒子的單色圖像。圖c代表細胞放大圖,圖d代表含有AuNP的區(qū)域的光譜,這證實了60nm納米顆粒的存在。


那我我們的高光譜系統(tǒng)存在哪些優(yōu)勢呢?


相比常規(guī)的近紅外一區(qū)(700-900nm,NIR-I)熒光成像,近紅外二區(qū)(1000-1700nm,NIR-II)熒光成像優(yōu)勢很多,比如,其自發(fā)背景熒光較低,激光進入組織后穿透性更強,具有較高的信背比,且生物檢測的安全性更高。

系統(tǒng)支持暗場、或標準明場反射和透射成像,比逐點或基于線掃描的系統(tǒng)更快。




Photon ect.LIMA可調(diào)激光源的高光譜成像系統(tǒng)特點:

-高光學分辨率<5.0nm

-高波長分辨率:FWHM/8(<0.7nm

-高空間分辨率:亞微米(受到光譜顯微鏡NA的限制)

-科研級別的產(chǎn)品,可正放或倒放

-掃描速度快

-透射式照明、熒光照明


Photon ect.LIMA激光波長可調(diào)的高光譜顯微鏡應用:

-生命科學(生物化學和納米傳感器、金納米粒子暗場成像)

-材料科學(鈣鈦礦(CIS)、銅銦鎵硒(CIGS)、硅(Si)、碳化硅(SiC)等光譜和空間分析)















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